Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield

Spatial and angular distributions of secondary electrons emitted from a uniaxial Co film surface with magnetization normal to the surface have been calculated. The electron energy has been chosen within 2 to 5 eV range (the main maximum of the energy spectrum) and at 100 eV (Auger electrons). It has...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2004
Автори: Melnichuk, I.A., Vasko, E.I., Melnychuk, P.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2004
Назва видання:Functional Materials
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139448
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield / I.A. Melnichuk, E.I. Vasko, P.I. Melnychuk // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 476-479. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-139448
record_format dspace
spelling irk-123456789-1394482018-06-21T03:03:55Z Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield Melnichuk, I.A. Vasko, E.I. Melnychuk, P.I. Spatial and angular distributions of secondary electrons emitted from a uniaxial Co film surface with magnetization normal to the surface have been calculated. The electron energy has been chosen within 2 to 5 eV range (the main maximum of the energy spectrum) and at 100 eV (Auger electrons). It has been shown that the regular stripe domain structure must result in an anisotropic spatial distribution of electrons escaped from the surface and reduced secondary electron yield at small escape angles. This phenomenon is similar to the escape blocking effect at the interaction of accelerated particles with single crystals. Рассчитаны пространственные и угловые распределения вторичных электронов, эмитированных с поверхности одноосной пленки Co с намагниченностью, перпендикулярной поверхности. Энергия электронов выбиралась в интервалах 2-5 эВ (основной максимум энергетического спектра) и 100 эВ (Оже электроны). Показано, что наличие регулярной полосовой доменной структуры должно приводить к анизотропии пространственного распределения электронов, покинувших поверхность и уменьшению выхода вторичных электронов при малых значениях углов вылета. Это явление аналогично эффекту блокировки выхода при взаимодействии ускоренных частиц с монокристаллами. Розраховано просторові та кутові розподіли вторинних єлєктронів, що емітовані з повєрхні одновісної плівки Co з намагніченістю перепендикулярною до поверхні. Енергію електронів вибрано у інтервалах 2-5 еВ (основний максимум енергетичного спектра) та 100 еВ (Оже електрони). Показано, що наявність регулярної смугової доменної структури має приводити до анізотропії просторового розподілу електронів, які вийшли з поверхні та зменшенню виходу вторинних електронів при малих кутах вильоту. Це явище є аналогічним до ефекту блокіровки виходу при взаємодії прискорених часток з монокристалами. 2004 Article Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield / I.A. Melnichuk, E.I. Vasko, P.I. Melnychuk // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 476-479. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. 1027-5495 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139448 en Functional Materials НТК «Інститут монокристалів» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
description Spatial and angular distributions of secondary electrons emitted from a uniaxial Co film surface with magnetization normal to the surface have been calculated. The electron energy has been chosen within 2 to 5 eV range (the main maximum of the energy spectrum) and at 100 eV (Auger electrons). It has been shown that the regular stripe domain structure must result in an anisotropic spatial distribution of electrons escaped from the surface and reduced secondary electron yield at small escape angles. This phenomenon is similar to the escape blocking effect at the interaction of accelerated particles with single crystals.
format Article
author Melnichuk, I.A.
Vasko, E.I.
Melnychuk, P.I.
spellingShingle Melnichuk, I.A.
Vasko, E.I.
Melnychuk, P.I.
Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
Functional Materials
author_facet Melnichuk, I.A.
Vasko, E.I.
Melnychuk, P.I.
author_sort Melnichuk, I.A.
title Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
title_short Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
title_full Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
title_fullStr Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
title_full_unstemmed Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
title_sort effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield
publisher НТК «Інститут монокристалів» НАН України
publishDate 2004
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139448
citation_txt Effect of stripe domain structure orientation on secondary electron yield / I.A. Melnichuk, E.I. Vasko, P.I. Melnychuk // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 476-479. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.
series Functional Materials
work_keys_str_mv AT melnichukia effectofstripedomainstructureorientationonsecondaryelectronyield
AT vaskoei effectofstripedomainstructureorientationonsecondaryelectronyield
AT melnychukpi effectofstripedomainstructureorientationonsecondaryelectronyield
first_indexed 2023-10-18T21:20:20Z
last_indexed 2023-10-18T21:20:20Z
_version_ 1796152549423710208