Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films
Structural and mechanical properties of nanocomposite TiAI(Si)N thin films prepared using arc-plasma PVD deposition technique on WC-Co substrates have been characterized by X-ray diffraction and nanoindentation. TEM have been used to study the microstructure of thin films, in order to understand the...
Збережено в:
| Дата: | 2004 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України
2004
|
| Назва видання: | Functional Materials |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139468 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films / O.I. Nakonechna, M.I. Zakharenko // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 541-545. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-139468 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1394682018-06-21T03:04:20Z Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films Nakonechna, O.I. Zakharenko, M.I. Structural and mechanical properties of nanocomposite TiAI(Si)N thin films prepared using arc-plasma PVD deposition technique on WC-Co substrates have been characterized by X-ray diffraction and nanoindentation. TEM have been used to study the microstructure of thin films, in order to understand the growth mechanism thereof. The maximum hardness of thin films was observed for materials of near the Al-Si eutectic composition. The smallest grain size (30 nm) in the film corresponds also to that composition. Методами рентгеновского фазового анализа и наноиндентирования исследованы структурные и механические свойства нанокомпозитных тонких пленок на основе TiAISiN. Материалы получены методом катодного осаждения на подложку WC-Co. Для выяснения механизма роста тонких пленок проведены электронно-микроскопические исследования. Обнаружено, что максимальная твердость тонких пленок наблюдается для материалов с химическим составом вблизи области эвтектики Al-Si. Также этому составу соответствует наименьший размер кристаллита в пленке (30 нм). Методами рєнтгєнівського фазового аналізу та наноіндентування досліджєно структуру та механічні властивості нанокомпозитних тонких плівок на основі TiAISiN. Матеріали одержано методом катодного осадження на підкладку WC-Co. З метою визначення механізму росту тонких плівок проведено електронно-мікроскопічні дослідження. Максимальна твердість плівок спостерігається для зразків, хімічний склад яких знаходиться поблизу області евтектики AI-Si. Цьому складу відповідає також і мінімальний розмір кристалітів (30 нм). 2004 Article Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films / O.I. Nakonechna, M.I. Zakharenko // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 541-545. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. 1027-5495 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139468 en Functional Materials НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| description |
Structural and mechanical properties of nanocomposite TiAI(Si)N thin films prepared using arc-plasma PVD deposition technique on WC-Co substrates have been characterized by X-ray diffraction and nanoindentation. TEM have been used to study the microstructure of thin films, in order to understand the growth mechanism thereof. The maximum hardness of thin films was observed for materials of near the Al-Si eutectic composition. The smallest grain size (30 nm) in the film corresponds also to that composition. |
| format |
Article |
| author |
Nakonechna, O.I. Zakharenko, M.I. |
| spellingShingle |
Nakonechna, O.I. Zakharenko, M.I. Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films Functional Materials |
| author_facet |
Nakonechna, O.I. Zakharenko, M.I. |
| author_sort |
Nakonechna, O.I. |
| title |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films |
| title_short |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films |
| title_full |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films |
| title_fullStr |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films |
| title_full_unstemmed |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films |
| title_sort |
influence of si on microstructure and mechanical properties of tiaisin hard thin films |
| publisher |
НТК «Інститут монокристалів» НАН України |
| publishDate |
2004 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/139468 |
| citation_txt |
Influence of Si on microstructure and mechanical properties of TiAISiN hard thin films / O.I. Nakonechna, M.I. Zakharenko // Functional Materials. — 2004. — Т. 11, № 3. — С. 541-545. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
| series |
Functional Materials |
| work_keys_str_mv |
AT nakonechnaoi influenceofsionmicrostructureandmechanicalpropertiesoftiaisinhardthinfilms AT zakharenkomi influenceofsionmicrostructureandmechanicalpropertiesoftiaisinhardthinfilms |
| first_indexed |
2023-10-18T21:20:22Z |
| last_indexed |
2023-10-18T21:20:22Z |
| _version_ |
1796152553141960704 |