Геттерирование примесей и дефектов в системной технологии микроэлектроники БИС
Збережено в:
Дата: | 1998 |
---|---|
Автор: | Новосядлый, С.П. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1998
|
Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/140766 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Геттерирование примесей и дефектов в системной технологии микроэлектроники БИС / С.П. Новосядлый // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 2. — С. 39. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Технология локальной изоляции активных элементов больших интегральных схем
за авторством: Новосядлый, С.П.
Опубліковано: (1998) -
Формирование тонкопленочного диэлектрика на основе β-тантала
за авторством: Буджак, Я.С., та інші
Опубліковано: (1998) -
Про першоздання Києва
за авторством: Даниленко, В.М.
Опубліковано: (2012) -
Юстировка пороговых напряжений в технологии БИС
за авторством: Новосядлый, С.П., та інші
Опубліковано: (1999) -
Плазменная технология формирования субмикронных структур БИС
за авторством: Новосядлый, С.П.
Опубліковано: (2002)