Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення зм...
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
2003
|
| Назва видання: | Поверхность |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення змінює форму отверділої області при полімеризації товстих шарів в обмежених об’ємах, що пояснюєтьс янерівномірністю розподілу світла в наповненій композиції. На основі експериментальни хданих запропоновано модель специфічного світлорозподілу в наповненій кремнеземами композиції. |
|---|