Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення зм...
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
2003
|
| Назва видання: | Поверхность |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-146203 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1462032019-02-09T01:23:31Z Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом Старокадомський, Д.Л. Фотохімічні перетворення на поверхні Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення змінює форму отверділої області при полімеризації товстих шарів в обмежених об’ємах, що пояснюєтьс янерівномірністю розподілу світла в наповненій композиції. На основі експериментальни хданих запропоновано модель специфічного світлорозподілу в наповненій кремнеземами композиції. The influence of the high disperse silicas on the la2er-going photopol2merisation process of ol2goesteracr2lates is considered. It 0as found that filling 0ith silica does not change the la2er-going character of photohardening but decreases the rate of the process and e1treme thickness of the hardened la2er. The filling changes the form of the hardening region at pol2meri3ation of thick la2ers of composites 0hat ma2 be e1plained b2 especial light-distribution in the filled composition. The e1periment-based model of specific light-distribution in the filled composition is proposed. 2003 Article Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. 2617-5975 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 66.095.265:541.013 uk Поверхность Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Ukrainian |
| topic |
Фотохімічні перетворення на поверхні Фотохімічні перетворення на поверхні |
| spellingShingle |
Фотохімічні перетворення на поверхні Фотохімічні перетворення на поверхні Старокадомський, Д.Л. Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом Поверхность |
| description |
Розглянуто вплив високодисперсних кремнеземів на процес пошарового фотоотвердіння олігоефіракрилатів. Встановлено, що введення кремнеземів, не змінюючи пошарового характеру фотоотвердіння, зменшує граничну товщину отвердіння й сповільнює швидкість процесу. Наповнення змінює форму отверділої області при полімеризації товстих шарів в обмежених об’ємах, що пояснюєтьс янерівномірністю розподілу світла в наповненій композиції. На основі експериментальни хданих запропоновано модель специфічного світлорозподілу в наповненій кремнеземами композиції. |
| format |
Article |
| author |
Старокадомський, Д.Л. |
| author_facet |
Старокадомський, Д.Л. |
| author_sort |
Старокадомський, Д.Л. |
| title |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| title_short |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| title_full |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| title_fullStr |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| title_full_unstemmed |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| title_sort |
розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом |
| publisher |
Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України |
| publishDate |
2003 |
| topic_facet |
Фотохімічні перетворення на поверхні |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/146203 |
| citation_txt |
Розподіл світла як фактор впливу на перебігпошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом / Д.Л. Старокадомський // Поверхность. — 2003. — Вип. 9. — С. 93-98. — Бібліогр.: 21 назв. — укр. |
| series |
Поверхность |
| work_keys_str_mv |
AT starokadomsʹkijdl rozpodílsvítlaâkfaktorvplivunaperebígpošarovoífotopolímerizacííolígoefírakrilatnihkompozicíjnapovnenihkremnezemom |
| first_indexed |
2023-05-20T17:24:09Z |
| last_indexed |
2023-05-20T17:24:09Z |
| _version_ |
1796153219679780864 |