Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown t...
Збережено в:
| Дата: | 2018 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147354 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-147354 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1473542019-02-15T01:25:05Z Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязнение макрочастицами (МЧ). Одной из возможных причин уменьшения числа частиц при наличии реактивного газа является электростатическое отражение МЧ от подложки. Показано, что вероятность электростатического отражения увеличивается с давлением азота благодаря расширению области в плазменном слое, где заряд МЧ отрицателен. Заряд МЧ рассчитан с учетом зависимости зарядового состава ионов, потоков и энергий ионов от давления газа. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення макрочастинками (МЧ). Однією з можливих причин зменшення кількості частинок у присутності реактивного газу є електростатичне відбиття МЧ від підкладки. Показано, що ймовірність електростатичного відбиття зростає з тиском азоту завдяки розширенню ділянки плазмового шару, де заряд МЧ є від’ємним. Заряд МЧ розраховано з урахуванням залежності зарядового складу іонів, потоків та енергій іонів від тиску газу. 2018 Article Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147354 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| spellingShingle |
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath Вопросы атомной науки и техники |
| description |
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc
deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for
the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic
reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP
charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence
of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure. |
| format |
Article |
| author |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_facet |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_sort |
Romashchenko, E.V. |
| title |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_short |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_full |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_fullStr |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_full_unstemmed |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_sort |
сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2018 |
| topic_facet |
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147354 |
| citation_txt |
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT romashchenkoev shargingofamacroparticleincathodicarcsheath AT bizyukovaa shargingofamacroparticleincathodicarcsheath AT girkaio shargingofamacroparticleincathodicarcsheath |
| first_indexed |
2023-05-20T17:27:36Z |
| last_indexed |
2023-05-20T17:27:36Z |
| _version_ |
1796153348397727744 |