Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат

Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимі...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
Дата:2008
Автори: Сисюк, В.Г., Грищенко, В.К., Гранчак, В.М., Бубнова, А.С., Давискиба, П.М.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2008
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-14830
record_format dspace
spelling irk-123456789-148302017-02-23T10:03:28Z Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат Сисюк, В.Г. Грищенко, В.К. Гранчак, В.М. Бубнова, А.С. Давискиба, П.М. Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві. Разработаны фотополимеризационноспособные композиции на основе щелочерастворимого полимера с добавлением олигоэфиракрилатов и эпоксиакрилатов для создания защитных покрытий (масок) плат печатного монтажа. Исследовано влияние олигомерных составляющих на физико-химические и физико-механические свойства полимерного материала. Проведена оптимизация состава фоточувствительной композиции для изготовления трафаретной краски с целью формирования изображения защитного покрытия (маски) высокого качества и испытания краски и покрытия на производстве/ Photopolymerable compositions based on alkali-soluble polymers with oligoetheracrylate and epoxyacrylate are developed for creation of protective coatings (masks) of board circuit wiring. The influence of oligomer components on physicochemical and physicomechanical properties of a polymeric material is investigated. Optimization of photosensitive composition structure, which was used for screen printing manufacturing, is lead with the purpose of the high quality protective coating (mask) image formation and its testing at manufacture. Key words: board, protective coating, photopolymer composition, modification, reactive oligomer, imaging, optimization. 2008 Article Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр. 1815-2066 DOI: doi.org/10.15407/scin4.06.005 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830 uk Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
topic Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
spellingShingle Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
description Розроблені фотополімеризаційноздатні композиції на основі лугорозчинного полімеру та олігоефіракрилатів і епоксиакрилатів для створення захисних покриттів (масок) плат друкованого монтажу. Досліджено вплив олігомерних складових на фізико-механічні властивості полімерного матеріалу. Проведена оптимізація складу фоточутливої композиції для виготовлення трафаретної фарби з метою формування захисного покриття (маски) високої якості та випробування фарби та покриття на виробництві.
format Article
author Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
author_facet Сисюк, В.Г.
Грищенко, В.К.
Гранчак, В.М.
Бубнова, А.С.
Давискиба, П.М.
author_sort Сисюк, В.Г.
title Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_short Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_full Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_fullStr Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_full_unstemmed Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
title_sort фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат
publisher Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
publishDate 2008
topic_facet Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14830
citation_txt Фотополімерні композиційні матеріали для захисних покриттів друкованих плат / В.Г. Сисюк, В.К. Грищенко, В.М. Гранчак, А.С. Бубнова, П.М. Давискиба // Наука та інновації. — 2008. — Т. 4, № 6. — С. 5-11. — Бібліогр.: 13 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT sisûkvg fotopolímerníkompozicíjnímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT griŝenkovk fotopolímerníkompozicíjnímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT grančakvm fotopolímerníkompozicíjnímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT bubnovaas fotopolímerníkompozicíjnímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
AT daviskibapm fotopolímerníkompozicíjnímateríalidlâzahisnihpokrittívdrukovanihplat
first_indexed 2023-10-18T16:53:56Z
last_indexed 2023-10-18T16:53:56Z
_version_ 1796140164188209152