Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела

В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального с...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2016
Автори: Теребинская, М.И., Ткачук, О.И., Лобанов, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2016
Назва видання:Поверхность
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148506
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-148506
record_format dspace
spelling irk-123456789-1485062019-02-19T01:26:51Z Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела Теребинская, М.И. Ткачук, О.И. Лобанов, В.В. Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального состояния его остовной оболочки. Обсуждаются явления, определяющие форму, тонкую структуру, а также интенсивность спектральных линий. Подробно анализируются возможности качественного и количественного анализа атомного состава молекулярных систем, «ложные линии», химические сдвиги линий остовных уровней атомов, находящихся в различном химическом окружении. Анализ положения таких линий позволяет установить химический состав поверхности твердого тела и приповерхностной области. Надлежащее внимание уделено квантовохимическим методам нахождения энергии уровней остовных состояний и плотности одноэлектронных уровней валентных состояний, а также подходам, развитым для сравнения экспериментально полученных спектров фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов с теоретически рассчитанными. The paper describes the physical principles of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy. We consider the distribution of the kinetic energy of the electrons formed as a result of the external photoelectric effect, and electrons leaves the atom with the relaxation of the initial state of its core-shell. We discuss the phenomena that determine the shape, the fine structure and the intensity of the spectral lines. Analyzed in detail the possibility of qualitative and quantitative analysis of the atomic composition, "false line", the chemical shifts of the lines of the core levels of atoms in different chemical environments. Analysis of these lines allows the chemical composition of the solid surface and near-surface region. Proper attention is paid to quantum-chemical methods of finding the energy levels of core states and density of states of the valence-electron levels and approaches developed to compare the experimentally obtained spectra of X-ray photoelectron and ultraviolet spectroscopy and Auger electron spectroscopy and theoretical calculations. У статті описані фізичні принципи фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів. Розглянуто розподіл по кінетичної енергії електронів, що утворюються в результаті зовнішнього фотоефекту, і електронів, які залишають атом при релаксації початкового стану його остовної оболонки. Обговорюються явища, що визначають форму, тонку структуру, а також інтенсивність спектральних ліній. Детально аналізуються можливості якісного та кількісного аналізу атомного складу, «помилкові лінії», хімічні зсуви ліній остовних рівнів атомів, що знаходяться в різному хімічному оточенні. Аналіз положення таких ліній дозволяє встановити хімічний склад поверхні твердого тіла і приповерхневої області. Належна увага приділена квантовохімічним методам знаходження енергії рівнів остівних станів і густини одноелектронних рівнів валентних станів, а також підходам, розвиненим для порівняння експериментально отриманих спектрів фотоелектронної рентгенівської та ультрафіолетової спектроскопії і спектроскопії Оже-електронів з теоретично розрахованими. 2016 Article Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. 2617-5975 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148506 544.18 ru Поверхность Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
spellingShingle Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
Поверхность
description В статье описаны физические принципы фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов. Рассмотрено распре­деление по кинетической энергии электронов, образующихся в результате внешнего фотоэффекта, и электронов, покидающих атом при релаксации начального состояния его остовной оболочки. Обсуждаются явления, определяющие форму, тонкую структуру, а также интенсивность спектральных линий. Подробно анализируются возможности качественного и количественного анализа атомного состава молекулярных систем, «ложные линии», химические сдвиги линий остовных уровней атомов, находящихся в различном химическом окружении. Анализ положения таких линий позволяет установить химический состав поверхности твердого тела и приповерхностной области. Надлежащее внимание уделено квантовохимическим методам нахождения энергии уровней остовных состояний и плотности одноэлектронных уровней валентных состояний, а также подходам, развитым для сравнения экспериментально полученных спектров фотоэлектронной рентгеновской и ультрафиолетовой спектроскопии и спектроскопии Оже-электронов с теоретически рассчитанными.
format Article
author Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
author_facet Теребинская, М.И.
Ткачук, О.И.
Лобанов, В.В.
author_sort Теребинская, М.И.
title Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_short Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_full Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_fullStr Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_full_unstemmed Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
title_sort рентгенофотоэлектронная и оже-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела
publisher Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
publishDate 2016
topic_facet Теория химического строения и реакционной способности поверхности. Моделирование процессов на поверхности
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/148506
citation_txt Рентгенофотоэлектронная и ОЖЕ-спектроскопия в исследованиях поверхности твердого тела / М.И. Теребинская, О.И. Ткачук, В.В. Лобанов // Поверхность. — 2016. — Вип. 8 (23). — С. 15-49. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
series Поверхность
work_keys_str_mv AT terebinskaâmi rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
AT tkačukoi rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
AT lobanovvv rentgenofotoélektronnaâiožespektroskopiâvissledovaniâhpoverhnostitverdogotela
first_indexed 2023-05-20T17:30:07Z
last_indexed 2023-05-20T17:30:07Z
_version_ 1796153439042928640