Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl

Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Савчук, А.В., Кочетова, С.А., Буряк, Н.И., Туманова, Н.Х.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 2008
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/14856
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Механизм и кинетика растворения и осаждения родия при электролизе расплава карбамид—NH4Cl / А.В. Савчук, С.А. Кочетова, Н.И. Буряк, Н.Х.Туманова // Украинский химический журнал. — 2008. — Т. 74, № 3. — С. 31-33. — Бібліогр.: 7 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследовано электрохимическое поведение родия в низкотемпературном карбамид-хлоридном расплаве. Изучены механизм анодного растворения металла в расплавленном карбамиде, карбамид-хлоридном расплаве, карбамид-хлоридном расплаве, содержащем RhCl3. Установлены состав и структура комплексов родия (Rh(NH3)6^3–), образующихся в расплаве после анодного растворения. После электрохимического восстановления комплексов на платиновой поверхности образуется слой родия толщиной до 3 мкм с размером частиц от 10—20 нм, частично глобулированный.