Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni
За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж...
Збережено в:
| Дата: | 2012 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2012
|
| Назва видання: | Металлофизика и новейшие технологии |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167704 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni / С.І. Сидоренко, С.М. Волошко, О.О. Міщук, А.А. Тинькова // Металлофизика и новейшие технологии. — 2012. — Т. 34, № 1. — С. 65-76. — Бібліогр.: 13 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | За даними мас-спектрометрії вторинних йонів, електронної Оже-спектроскопії, Рентґенової дифракції, оптичної та атомово-силової мікроскопії досліджено інтенсивність розвитку дифузійних процесів і зміни морфології поверхні в системі Au (120 нм)/Ni (70 нм) за умов відпалу за температури 200 °C впродовж 20 хв. у вакуумній камері за різних значень тиску залишкової атмосфери (10⁻³ Па і 10⁻⁶ Па) та в середовищі водню під тиском у 5∙10² Па. |
|---|