Электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавленных электролитах

Исследовано электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавах на основе карбамида и ацетамида. Показано, что химическое растворение RuCl₃ в данных расплавах сопровождается образованием аммиачных комплексов Ru(III), которые электроактивны и разряжаются в одну стадию необратимо до мет...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Савчук, А.В., Туманова, Н.Х., Буряк, Н.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України 2010
Назва видання:Украинский химический журнал
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/186047
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавленных электролитах / А.В. Савчук, Н.Х. Туманова, Н.И. Буряк // Украинский химический журнал. — 2010. — Т. 76, № 6. — С. 105-109. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследовано электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавах на основе карбамида и ацетамида. Показано, что химическое растворение RuCl₃ в данных расплавах сопровождается образованием аммиачных комплексов Ru(III), которые электроактивны и разряжаются в одну стадию необратимо до металла. При электрохимическом растворении металла наблюдается слабая пассивация электродов, также с образованием аммиачных комплексов. Стационарный электролиз карбамидного и ацетамидного расплавов приводит к осаждению металла в виде гальванического покрытия толщиной до 10—12.5 мкм на различных металлических подложках (Pt, Cu, Mo), с хорошей адгезией к основе.