Электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавленных электролитах
Исследовано электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавах на основе карбамида и ацетамида. Показано, что химическое растворение RuCl₃ в данных расплавах сопровождается образованием аммиачных комплексов Ru(III), которые электроактивны и разряжаются в одну стадию необратимо до мет...
Збережено в:
Дата: | 2010 |
---|---|
Автори: | , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут загальної та неорганічної хімії ім. В.І. Вернадського НАН України
2010
|
Назва видання: | Украинский химический журнал |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/186047 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавленных электролитах / А.В. Савчук, Н.Х. Туманова, Н.И. Буряк // Украинский химический журнал. — 2010. — Т. 76, № 6. — С. 105-109. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | Исследовано электрохимическое поведение рутения в низкотемпературных расплавах на основе карбамида и ацетамида. Показано, что химическое растворение RuCl₃ в данных расплавах сопровождается образованием аммиачных комплексов Ru(III), которые электроактивны и разряжаются в одну стадию необратимо до металла. При электрохимическом растворении металла наблюдается слабая пассивация электродов, также с образованием аммиачных комплексов. Стационарный электролиз карбамидного и ацетамидного расплавов приводит к осаждению металла в виде гальванического покрытия толщиной до 10—12.5 мкм на различных металлических подложках (Pt, Cu, Mo), с хорошей адгезией к основе. |
---|