Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне

В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нит...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2009
Автори: Михальская, С.И., Порецкая, Е.И., Сергеева, Л.Е.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова 2009
Назва видання:Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/18884
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-18884
record_format dspace
spelling irk-123456789-188842013-02-13T02:47:46Z Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне Михальская, С.И. Порецкая, Е.И. Сергеева, Л.Е. Оригінальні статті В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нитратную, либо аммиачную форму азота. Уровень свободного пролина в клетках при культивировании в стрессовых условиях превышал контрольный показатель от 1,5 до 4,9 раз. Однако комплексная устойчивость линии сои связана скорее с реализацией зависимых от условий культивирования механизмов его синтеза/деградации, отражающейся в различном характере колебаний уровня свободного пролина. У W-стійкої клітинної лінії сої, яку культивували в присутності аніонів WO4^2-; VO3^-; ClO3^- та на контрольному середовищі досліджували динаміку вмісту рівня вільного проліну. Селективні середовища з іонами вольфраму або ванадію містили лише нітрати; селективні середовища з KClO3 містили або нітратну, або аміачну форму азоту. Рівень вільного проліну в клітинах при культивуванні за стресових умов перевищував контрольний показник від 1,5 до 4,9 разів. Однак, комплексна стійкість лінії сої пов’язана скоріше з реалізацією залежних від умов культивування механізмів синтезу/деградації, яка відображається в різному характері коливань рівня вільного проліну. There was investigated the free proline levels fluctuations in calli of the W-resistant soybean cell line, cultivated at presence of WO4^2-; VO3^-; ClO3^- anions and on the control medium. Selective media with tungsten or vanadium ions contained only nitrates, where as selective media with KClO3 contained either nitrates or ammonium forms of nitrogen. The cell free proline levels during cultivation under stress conditions were from 1,5 to 4,9 times higher than the control one was. However, the cell combined stress resistance is rather reflected through various types of proline level fluctuations. The lasts are the result of the developed condition-dependent mechanisms of the proline synthesis/degradation. 2009 Article Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос. 1810-7834 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/18884 581.196.143.6 ru Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Оригінальні статті
Оригінальні статті
spellingShingle Оригінальні статті
Оригінальні статті
Михальская, С.И.
Порецкая, Е.И.
Сергеева, Л.Е.
Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів
description В W-устойчивой клеточной линии сои, которую культивировали в присутствии анионов WO4^2-; VO3^-; ClO3^- и на контрольной среде изучали динамику содержания уровня свободного пролина. Селективные среды с ионами вольфрама или ванадия содержали только нитраты; селективные среды с KClO3 содержали либо нитратную, либо аммиачную форму азота. Уровень свободного пролина в клетках при культивировании в стрессовых условиях превышал контрольный показатель от 1,5 до 4,9 раз. Однако комплексная устойчивость линии сои связана скорее с реализацией зависимых от условий культивирования механизмов его синтеза/деградации, отражающейся в различном характере колебаний уровня свободного пролина.
format Article
author Михальская, С.И.
Порецкая, Е.И.
Сергеева, Л.Е.
author_facet Михальская, С.И.
Порецкая, Е.И.
Сергеева, Л.Е.
author_sort Михальская, С.И.
title Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
title_short Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
title_full Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
title_fullStr Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
title_full_unstemmed Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
title_sort варьирование уровня свободного пролина у w-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне
publisher Українське товариство генетиків і селекціонерів ім. М.І. Вавилова
publishDate 2009
topic_facet Оригінальні статті
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/18884
citation_txt Варьирование уровня свободного пролина у W-устойчивой клеточной линии сои при культивировании на различном стрессовом фоне / С.И. Михальская, Е.И. Порецкая, Л.Е. Сергеева // Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів. — 2009. — Т. 7, № 1. — С. 74-81. — Бібліогр.: 26 назв. — рос.
series Вісник Українського товариства генетиків і селекціонерів
work_keys_str_mv AT mihalʹskaâsi varʹirovanieurovnâsvobodnogoprolinauwustojčivojkletočnojliniisoiprikulʹtivirovaniinarazličnomstressovomfone
AT poreckaâei varʹirovanieurovnâsvobodnogoprolinauwustojčivojkletočnojliniisoiprikulʹtivirovaniinarazličnomstressovomfone
AT sergeevale varʹirovanieurovnâsvobodnogoprolinauwustojčivojkletočnojliniisoiprikulʹtivirovaniinarazličnomstressovomfone
first_indexed 2023-10-18T17:03:20Z
last_indexed 2023-10-18T17:03:20Z
_version_ 1796140562877775872