Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes

The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Kovtun, Yu.V., Kuprin, A.S., Lunev, V.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194705
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-194705
record_format dspace
spelling irk-123456789-1947052023-11-29T11:13:57Z Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes Kovtun, Yu.V. Kuprin, A.S. Lunev, V.M. Low temperature plasma and plasma technologies The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in both the ion current density and the rate of coating deposition takes place at Ar pressure above 1 Pa. Consideration is given to the elementary processes occurring during plasma stream-gas target interaction. Досліджено впливи тиску аргону на іонний струм вакуумно-дугового розряду в установці «Булат-6» з Cr-, Cu-, Zr-катодами, а також на швидкість осадження покриттів на поверхні перпендикулярні і паралельні плазмовому потоку. Показано, що істотні зменшення густини іонного струму і швидкості осадження покриттів відбуваються при тиску Ar вище 1 Pa. Розглянуто елементарні процеси, що відбуваються при взаємодії плазмового потоку з газовою мішенню. Исследованы влияния давления аргона на ионный ток вакуумно-дугового разряда в установке «Булат-6» с Cr-, Cu-, Zr-катодами, а также на скорость осаждения покрытий на поверхности, перпендикулярные и параллельные плазменному потоку. Показано, что существенные уменьшения плотности ионного тока и скорости осаждения покрытий происходят при давлении Ar выше 1 Pa. Рассмотрены элементарные процессы, происходящие при взаимодействии плазменного потока с газовой мишенью. 2019 Article Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.80.-s; 52.80.Mg http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194705 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Kovtun, Yu.V.
Kuprin, A.S.
Lunev, V.M.
Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
Вопросы атомной науки и техники
description The work deals with the influence of argon pressure on the ion current of vacuum-arc discharge in the “Bulat-6” setup with Cr-Cu-Zr-cathodes, and also, on the rate of coating deposition on the surfaces being perpendicular and parallel to the plasma stream. It is shown that a substantial decrease in both the ion current density and the rate of coating deposition takes place at Ar pressure above 1 Pa. Consideration is given to the elementary processes occurring during plasma stream-gas target interaction.
format Article
author Kovtun, Yu.V.
Kuprin, A.S.
Lunev, V.M.
author_facet Kovtun, Yu.V.
Kuprin, A.S.
Lunev, V.M.
author_sort Kovtun, Yu.V.
title Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
title_short Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
title_full Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
title_fullStr Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
title_full_unstemmed Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes
title_sort investigation of the influence of ar pressure on vacuum-arc plasma with cr-, cu-, and zr-cathodes
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194705
citation_txt Investigation of the influence of Ar pressure on vacuum-arc plasma with Cr-, Cu-, and Zr-cathodes / Yu.V. Kovtun, A.S. Kuprin, V.M. Lunev // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 145-148. — Бібліогр.: 25 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT kovtunyuv investigationoftheinfluenceofarpressureonvacuumarcplasmawithcrcuandzrcathodes
AT kuprinas investigationoftheinfluenceofarpressureonvacuumarcplasmawithcrcuandzrcathodes
AT lunevvm investigationoftheinfluenceofarpressureonvacuumarcplasmawithcrcuandzrcathodes
first_indexed 2024-03-31T09:12:32Z
last_indexed 2024-03-31T09:12:32Z
_version_ 1796157977653149696