Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
The vacuum-arc plasma source with a rectilinear filter has been optimized for deposition of coatings on large size products. The calculations of the magnetic configuration options of the system were performed by using the FEMM program. New design of the output coil of the filter allows increase by 1...
Збережено в:
Дата: | 2021 |
---|---|
Автори: | Aksyonov, D.S., Vasyliev, V.V., Luchaninov, A.A., Strelnitskij, V.E. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194774 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter / D.S. Aksyonov, V.V. Vasyliev, A.A. Luchaninov, V.E. Strelnitskij // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 145-149. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Mechanisms affecting the speed and direction of vacuum arc cathode spots movement in a magnetic field
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2023) -
Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems
за авторством: Aksenov, I.I.
Опубліковано: (2002) -
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008) -
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019) -
Investigation of the abrasive durability of the multilayer diamond-like coatings for the ring-shaped dry gaseous seals made of SiC
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2019)