Formation of light impurities in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge
Analyzing the dynamics of density for atomic and molecular hydrogen ions, the values of atomic hydrogen and UV radiation fluxes to the walls of the plasma chamber were obtained, resulting in light impurities of carbon and oxygen at plasma start-up during the process of desorption from the walls unde...
Збережено в:
Дата: | 2019 |
---|---|
Автори: | Yuferov, V.B., Skibenko, E.I., Tkachov, V.I., Katrechko, V.V., Svichkar, A.S. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195190 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Formation of light impurities in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge / V.B. Yuferov, E.I. Skibenko, V.I. Tkachov, V.V. Katrechko, A.S. Svichkar // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 110-112. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
The atomic-molecular processes in a hydrogen plasma at initial stage of a discharge
за авторством: Yuferov, V.B., та інші
Опубліковано: (2019) -
Numerical simulation of initial pressure effect on energy input in spark discharge in nitrogen
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019) -
Simulation of capacitively coupled RF discharge in argon
за авторством: Lisovskiy, V., та інші
Опубліковано: (2023) -
Effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurities on the efficiency of kiwifruit storage
за авторством: Yegorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2023) -
Thermal radiation in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K., та інші
Опубліковано: (2021)