High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
The kinetic simulation of high-voltage beam discharge at low pressure of nitrogen is fulfilled. The characteristics of particle flows to the tantalum cathode and back reflection of fast nitrogen atoms are calculated. The reflection coefficient equals tens of percents at voltages up to 100 kV. The ge...
Збережено в:
| Дата: | 2021 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195419 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode / V.S. Boldasov, A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.M. Shulaev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2021. — № 4. — С. 207-211. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | The kinetic simulation of high-voltage beam discharge at low pressure of nitrogen is fulfilled. The characteristics of particle flows to the tantalum cathode and back reflection of fast nitrogen atoms are calculated. The reflection coefficient equals tens of percents at voltages up to 100 kV. The generation of fast nitrogen atoms may be used for metals and dielectrics nitriding with implantation effect. |
|---|