High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode

The kinetic simulation of high-voltage beam discharge at low pressure of nitrogen is fulfilled. The characteristics of particle flows to the tantalum cathode and back reflection of fast nitrogen atoms are calculated. The reflection coefficient equals tens of percents at voltages up to 100 kV. The ge...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2021
Автори: Boldasov, V.S., Kuzmichev, A.I., Melnichenko, M.S., Shulaev, V.M.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195419
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode / V.S. Boldasov, A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.M. Shulaev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2021. — № 4. — С. 207-211. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-195419
record_format dspace
spelling irk-123456789-1954192023-12-05T12:05:27Z High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode Boldasov, V.S. Kuzmichev, A.I. Melnichenko, M.S. Shulaev, V.M. Applications and technologies The kinetic simulation of high-voltage beam discharge at low pressure of nitrogen is fulfilled. The characteristics of particle flows to the tantalum cathode and back reflection of fast nitrogen atoms are calculated. The reflection coefficient equals tens of percents at voltages up to 100 kV. The generation of fast nitrogen atoms may be used for metals and dielectrics nitriding with implantation effect. Виконано кінетичне моделювання високовольтного променевого розряду при низькому тиску азоту. Розраховані характеристики потоків частинок до танталового катода і зворотне відбиття швидких атомів азоту. Коефіцієнт відбиття дорівнює десяткам відсотків при напрузі до 100 кВ. Генерація швидких атомів азоту може бути використана для азотування металів і діелектриків з імплантаційним ефектом. Выполнено кинетическое моделирование высоковольтного лучевого разряда при низком давлении азота. Рассчитаны характеристики потоков частиц к танталовому катоду и обратного отражения быстрых атомов азота. Коэффициент отражения составляет десятки процентов при напряжении до 100 кВ. Генерация быстрых атомов азота может быть использована для азотирования металлов и диэлектриков с имплантационным эффектом. 2021 Article High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode / V.S. Boldasov, A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.M. Shulaev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2021. — № 4. — С. 207-211. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.80.Tn, 34.50.Dy DOI: https://doi.org/10.46813/2021-134-207 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195419 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Applications and technologies
Applications and technologies
spellingShingle Applications and technologies
Applications and technologies
Boldasov, V.S.
Kuzmichev, A.I.
Melnichenko, M.S.
Shulaev, V.M.
High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
Вопросы атомной науки и техники
description The kinetic simulation of high-voltage beam discharge at low pressure of nitrogen is fulfilled. The characteristics of particle flows to the tantalum cathode and back reflection of fast nitrogen atoms are calculated. The reflection coefficient equals tens of percents at voltages up to 100 kV. The generation of fast nitrogen atoms may be used for metals and dielectrics nitriding with implantation effect.
format Article
author Boldasov, V.S.
Kuzmichev, A.I.
Melnichenko, M.S.
Shulaev, V.M.
author_facet Boldasov, V.S.
Kuzmichev, A.I.
Melnichenko, M.S.
Shulaev, V.M.
author_sort Boldasov, V.S.
title High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
title_short High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
title_full High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
title_fullStr High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
title_full_unstemmed High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
title_sort high voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2021
topic_facet Applications and technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195419
citation_txt High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode / V.S. Boldasov, A.I. Kuzmichev, M.S. Melnichenko, V.M. Shulaev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2021. — № 4. — С. 207-211. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT boldasovvs highvoltagebeamdischargeinnitrogenwithfastneutralatomreflectionfromtantalumcathode
AT kuzmichevai highvoltagebeamdischargeinnitrogenwithfastneutralatomreflectionfromtantalumcathode
AT melnichenkoms highvoltagebeamdischargeinnitrogenwithfastneutralatomreflectionfromtantalumcathode
AT shulaevvm highvoltagebeamdischargeinnitrogenwithfastneutralatomreflectionfromtantalumcathode
first_indexed 2024-03-31T09:15:43Z
last_indexed 2024-03-31T09:15:43Z
_version_ 1796158048820002816