Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1%
A DC source with a voltage of 30 kV with a ripple of less than 0.1% has been developed and manufactured for accelerating and focusing electrons in a dielectric laser accelerator on a chip structure. The source, which has a smooth voltage change limit from 10 to 30 kV, with a ripple of 0.1% over the...
Збережено в:
Дата: | 2023 |
---|---|
Автори: | Krivonosov, G.A., Svystunov, O.А., Vasiliev, A.V., Sotnikov, G.V. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2023
|
Назва видання: | Problems of Atomic Science and Technology |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196161 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Voltage source up to 30 kV with pulsation not more than 0.1% / G.A. Krivonosov, O.А. Svystunov, A.V. Vasiliev, G.V. Sotnikov // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 3. — С. 164-167. — Бібліогр.: 8 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Excitation of plasma by electric pulses in neon medium
за авторством: Zaleskyi, D.Yu., та інші
Опубліковано: (2019) -
High voltage beam discharge in nitrogen with fast neutral atom reflection from tantalum cathode
за авторством: Boldasov, V.S., та інші
Опубліковано: (2021) -
Influence of plasma chemical reactions products in barrierless gas discharge in the air on vegetables and fruits storage
за авторством: Yegorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2021) -
Plasma-chemical methods for control of biotic contaminants
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2019) -
Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2019)