Temperature dynamics of the microdroplet fraction of metal plasma in plasma-optical devices with fast electrons
The computer simulation of a plasma filter with fast electrons shows that the main source of droplet heating is thermal electrons, while the role of fast electrons is reduced mainly to transferring energy to slow electrons. The processes of drop charging in the presence of an electron beam and the e...
Збережено в:
Дата: | 2023 |
---|---|
Автори: | Goncharov, A.A., Litovko, I.V., Ryabtsev, A.V. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2023
|
Назва видання: | Problems of Atomic Science and Technology |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/196198 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Temperature dynamics of the microdroplet fraction of metal plasma in plasma-optical devices with fast electrons / A.A. Goncharov, I.V. Litovko, A.V. Ryabtsev // Problems of Atomic Science and Technology. — 2023. — № 4. — С. 164-169. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозиторії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Plasma-chemical methods for control of biotic contaminants
за авторством: Taran, G.V., та інші
Опубліковано: (2019) -
Excitation of plasma by electric pulses in neon medium
за авторством: Zaleskyi, D.Yu., та інші
Опубліковано: (2019) -
Source of drops-free plasma flows of monocristaline zirconium
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2019) -
Plasma treatment of titanium dioxide film for black TiO₂
за авторством: Frolova, E.K., та інші
Опубліковано: (2023) -
Features of plasma chemical etching of lithium tantalate substrate (LiTaO₃)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2021)