Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі

Сформульовані початково-крайові задачі, які моделюють процеси дифузійної обробки напівпровідникових пластин з урахуванням впливу механічних напружень, зумовлених неоднорідним розподілом домішкових атомів у ґратці. Розроблено алгоритм розв’язування сформульованих нелінійних задач із використанням аси...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автор: Фльорко, О.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Центр математичного моделювання Інституту прикладних проблем механіки і математики ім. Я.С. Підстригача НАН України 2010
Назва видання:Фізико-математичне моделювання та інформаційні технології
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/22395
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі / О. Фльорко // Фіз.-мат. моделювання та інформ. технології. — 2010. — Вип. 11. — С. 200-209. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-22395
record_format dspace
spelling irk-123456789-223952011-06-22T12:05:43Z Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі Фльорко, О. Сформульовані початково-крайові задачі, які моделюють процеси дифузійної обробки напівпровідникових пластин з урахуванням впливу механічних напружень, зумовлених неоднорідним розподілом домішкових атомів у ґратці. Розроблено алгоритм розв’язування сформульованих нелінійних задач із використанням асимптотичного розвинення розв’язку за малим параметром. У рамках розробленої моделі досліджено кінетику дифузійного насичення та напруженого стану пластини кремнію за ізотермічного легування атомами бору. Processes of diffusion treatment of semiconductor wafers with accounting of mechanical stresses caused by inhomogeneous distributions of the impurity atoms in the crystal lattice have been considered in the paper. Nonlinear boundary-value problems which model these processes have been formulated and an algorithm for their solving has been developed. The algorithm is based on the asymptotic expansion of the solution by a small parameter. Kinetics of diffusion saturation by boron and stress state of monocrystalline silicon wafer have been studied in the frame of developed model. Сформулированы нелинейные краевые задачи, моделирующие процессы диффузионной обработки полупроводниковых пластин с учетом влияния механических напряжений, обусловленных неоднородным распределением примесных атомов в решетке. Разработан алгоритм решения сформулированных задач с использованием асимптотического разложения искомого решения по малому параметру. В рамках разработанной модели исследована кинетика диффузионного насыщения и напряженного состояния пластины монокристаллического кремния при изотермическом легировании его атомами бора. 2010 Article Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі / О. Фльорко // Фіз.-мат. моделювання та інформ. технології. — 2010. — Вип. 11. — С. 200-209. — Бібліогр.: 11 назв. — укр. 1816-1545 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/22395 539.2 uk Фізико-математичне моделювання та інформаційні технології Центр математичного моделювання Інституту прикладних проблем механіки і математики ім. Я.С. Підстригача НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
description Сформульовані початково-крайові задачі, які моделюють процеси дифузійної обробки напівпровідникових пластин з урахуванням впливу механічних напружень, зумовлених неоднорідним розподілом домішкових атомів у ґратці. Розроблено алгоритм розв’язування сформульованих нелінійних задач із використанням асимптотичного розвинення розв’язку за малим параметром. У рамках розробленої моделі досліджено кінетику дифузійного насичення та напруженого стану пластини кремнію за ізотермічного легування атомами бору.
format Article
author Фльорко, О.
spellingShingle Фльорко, О.
Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
Фізико-математичне моделювання та інформаційні технології
author_facet Фльорко, О.
author_sort Фльорко, О.
title Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
title_short Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
title_full Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
title_fullStr Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
title_full_unstemmed Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
title_sort дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі
publisher Центр математичного моделювання Інституту прикладних проблем механіки і математики ім. Я.С. Підстригача НАН України
publishDate 2010
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/22395
citation_txt Дослідження нелінійної дифузії домішки у деформівному напівпровідниковому шарі / О. Фльорко // Фіз.-мат. моделювання та інформ. технології. — 2010. — Вип. 11. — С. 200-209. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.
series Фізико-математичне моделювання та інформаційні технології
work_keys_str_mv AT flʹorkoo doslídžennânelíníjnoídifuzíídomíškiudeformívnomunapívprovídnikovomušarí
first_indexed 2023-10-18T17:12:17Z
last_indexed 2023-10-18T17:12:17Z
_version_ 1796140928752156672