Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений

Представлены результаты исследований двух типов ВЧ-источников ионов: геликонового и мультикаспового с компактными системами постоянных магнитов. Получены следующие параметры источников: плотность плазмы 10¹¹—9 × 10¹² cм⁻³, плотность ионного тока — 10—130 мA/cм², яркость — ~100 A ⋅ м⁻² ⋅рад⁻² ⋅ эВ⁻¹,...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Возный, В.И., Мирошниченко, В.И., Мордик, С.Н., Нагорный, А.Г., Нагорный, Д.А., Сторижко, В.Е., Шульга, Д.П.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2010
Назва видання:Наука та інновації
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/28135
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений / В.И. Возный, В.И. Мирошниченко, С.Н. Мордик, А.Г. Нагорный, Д.А. Нагорный, В.Е. Сторижко, Д.П. Шульга // Наука та інновації. — 2010. — Т. 6, № 5. — С. 38-44. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Представлены результаты исследований двух типов ВЧ-источников ионов: геликонового и мультикаспового с компактными системами постоянных магнитов. Получены следующие параметры источников: плотность плазмы 10¹¹—9 × 10¹² cм⁻³, плотность ионного тока — 10—130 мA/cм², яркость — ~100 A ⋅ м⁻² ⋅рад⁻² ⋅ эВ⁻¹, энергетический разброс — 8—30 еВ при ВЧ-мощности 40—400 Вт, вводимой в плазму, и рабочем давлении в разрядной камере 2—10 мТорр.