Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений
Представлены результаты исследований двух типов ВЧ-источников ионов: геликонового и мультикаспового с компактными системами постоянных магнитов. Получены следующие параметры источников: плотность плазмы 10¹¹—9 × 10¹² cм⁻³, плотность ионного тока — 10—130 мA/cм², яркость — ~100 A ⋅ м⁻² ⋅рад⁻² ⋅ эВ⁻¹,...
Збережено в:
Дата: | 2010 |
---|---|
Автори: | , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2010
|
Назва видання: | Наука та інновації |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/28135 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Высокояркостные ВЧ-источники ионов для ускорительных приложений / В.И. Возный, В.И. Мирошниченко, С.Н. Мордик, А.Г. Нагорный, Д.А. Нагорный, В.Е. Сторижко, Д.П. Шульга // Наука та інновації. — 2010. — Т. 6, № 5. — С. 38-44. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | Представлены результаты исследований двух типов ВЧ-источников ионов: геликонового и мультикаспового с компактными системами постоянных магнитов. Получены следующие параметры источников: плотность плазмы 10¹¹—9 × 10¹² cм⁻³, плотность ионного тока — 10—130 мA/cм², яркость — ~100 A ⋅ м⁻² ⋅рад⁻² ⋅ эВ⁻¹, энергетический разброс — 8—30 еВ при ВЧ-мощности 40—400 Вт, вводимой в плазму, и рабочем давлении в разрядной камере 2—10 мТорр. |
---|