Процессы низкотемпературной дипольной релаксации в системах бычий сывороточный альбумин–нанооксид–вода

• Видавець: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
• Дата: 2009
• Автори: Гунько, В.М., Зарко, В.И., Гончарук, Е.В., Клименко, Н.Ю., Галаган, Н.П.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2009
• Назва видання: Поверхность
• Теми: Физико-химия поверхностных явлений
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/39285
• Цитувати: Процессы низкотемпературной дипольной релаксации в системах бычий сывороточный альбумин–нанооксид–вода / В.М. Гунько, В.И. Зарко, Е.В. Гончарук, Н.Ю. Клименко, Н.П. Галаган // Поверхность. — 2009. — Вип. 1(16). — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Методом термостимулированной деполяризации проведены сравнительные исследования процессов низкотемпературной дипольной релаксации в замороженных водных дисперсиях нанооксидов, индивидуальных и в присутствии бычьего сывороточного альбумина (БСА). Для последних систем характерно увеличение вкладов релаксационных процессов при Т > 160–170 К, в то время как для водных дисперсий оксидов бóльшие токи ТСД наблюдаются при Т < 160–170 К. Это отличие обусловлено участием молекул БСА – полярных связей, групп, фрагментов и целых макромолекул – в релаксационных процессах, особенности которых зависят от природы нанооксида и характера взаимодействий БСА с его поверхностью.