Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста

Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста

Исследовано влияние условии осаждения на состав пленок полукристаллического кремния, легированного в процессе роста кислородом (Г/КЛК). Разработана адсорбционно-кинетическая модель процесса осаждения ПКЛК с использованием концентрированного моносилана и закиси азота. Определена область оптимальных с...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2012
Автори: Наливайко, О.Ю., Турцевич, А.С.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Технологические процессы и оборудование
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51668
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 37-41. — Бібліогр.: 18 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-51668
record_format dspace
spelling irk-123456789-516682013-12-07T03:07:34Z Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста Наливайко, О.Ю. Турцевич, А.С. Технологические процессы и оборудование Исследовано влияние условии осаждения на состав пленок полукристаллического кремния, легированного в процессе роста кислородом (Г/КЛК). Разработана адсорбционно-кинетическая модель процесса осаждения ПКЛК с использованием концентрированного моносилана и закиси азота. Определена область оптимальных соотношении их расходов и температуры осаждения, при которых обеспечиваются приемлемая скорость и однородность осаждения, а также управляемость по содержанию кислорода в пленках и конформное осаждение пленок ПКЛК. Досліджено вплив умов осадження на склад плівок полікристалічного кремнію, легованого в процесі росту киснем (ПКЛК). Розроблено адсорбційно-кінетичну модель процесу осадження ПКЛК з використанням концентрованого моносилану і закису азоту. Визначено область оптимальних співвідношень їх витрат та температур осадження, при яких забезпечуються прийнятна швидкість і однорідність осадження, а також керованість за вмістом кисню у плівках ПКЛК і конформне осадження плівок ПКЛК. The influence of deposition conditions on composition of in-situ oxygen doped polysilicon films has been investigated. A kinetic model of adsorption-deposition process using concentrated silane and nitrous oxide has been developed. The range of optimal ratios of silane and nitrous oxide flows and deposition temperature, which provide the acceptable deposition rate, thickness uniformity, controllability of oxygen content in films and conformal deposition, have been determined. 2012 Article Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 37-41. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51668 621.382.002 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Технологические процессы и оборудование
Технологические процессы и оборудование
spellingShingle Технологические процессы и оборудование
Технологические процессы и оборудование
Наливайко, О.Ю.
Турцевич, А.С.
Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Исследовано влияние условии осаждения на состав пленок полукристаллического кремния, легированного в процессе роста кислородом (Г/КЛК). Разработана адсорбционно-кинетическая модель процесса осаждения ПКЛК с использованием концентрированного моносилана и закиси азота. Определена область оптимальных соотношении их расходов и температуры осаждения, при которых обеспечиваются приемлемая скорость и однородность осаждения, а также управляемость по содержанию кислорода в пленках и конформное осаждение пленок ПКЛК.
format Article
author Наливайко, О.Ю.
Турцевич, А.С.
author_facet Наливайко, О.Ю.
Турцевич, А.С.
author_sort Наливайко, О.Ю.
title Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
title_short Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
title_full Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
title_fullStr Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
title_full_unstemmed Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
title_sort кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2012
topic_facet Технологические процессы и оборудование
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51668
citation_txt Кинетика процессов осаждения пленок поликремния, легированного кислородом в процессе роста / О.Ю. Наливайко, А.С. Турцевич // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 37-41. — Бібліогр.: 18 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT nalivajkooû kinetikaprocessovosaždeniâplenokpolikremniâlegirovannogokislorodomvprocesserosta
AT turcevičas kinetikaprocessovosaždeniâplenokpolikremniâlegirovannogokislorodomvprocesserosta
first_indexed 2023-10-18T18:16:47Z
last_indexed 2023-10-18T18:16:47Z
_version_ 1796143785002926080

Схожі ресурси