Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»

Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2012
Автори: Кулинич, О.А., Яцунский, И.Р., Ештокина, Т.Ю., Брусенская, Г.И., Марчук, И.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-51670
record_format dspace
spelling irk-123456789-516702013-12-07T03:07:35Z Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» Кулинич, О.А. Яцунский, И.Р. Ештокина, Т.Ю. Брусенская, Г.И. Марчук, И.А. Материалы электроники Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом. Показано можливість використання методу фотолюмінесценції для вивчення механізмів пластичної деформації на границі «оксид кремнію — кремній» в процесі отримання шарів наноструктурованого кремнію деформаційних методом. The possibility of using the photoluminescence method for studying the mechanisms of plastic deformation at the boundary of "SiO₂—Si" in the process of obtaining nanostructured silicon layers by deformation. 2012 Article Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670 537.311.33:622.382.33 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Материалы электроники
Материалы электроники
spellingShingle Материалы электроники
Материалы электроники
Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Ештокина, Т.Ю.
Брусенская, Г.И.
Марчук, И.А.
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом.
format Article
author Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Ештокина, Т.Ю.
Брусенская, Г.И.
Марчук, И.А.
author_facet Кулинич, О.А.
Яцунский, И.Р.
Ештокина, Т.Ю.
Брусенская, Г.И.
Марчук, И.А.
author_sort Кулинич, О.А.
title Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
title_short Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
title_full Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
title_fullStr Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
title_full_unstemmed Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
title_sort фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «sio₂—si»
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2012
topic_facet Материалы электроники
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670
citation_txt Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT kuliničoa fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si
AT âcunskijir fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si
AT eštokinatû fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si
AT brusenskaâgi fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si
AT marčukia fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si
first_indexed 2023-10-18T18:16:47Z
last_indexed 2023-10-18T18:16:47Z
_version_ 1796143785216835584