Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si»
Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом....
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2012
|
Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-51670 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-516702013-12-07T03:07:35Z Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» Кулинич, О.А. Яцунский, И.Р. Ештокина, Т.Ю. Брусенская, Г.И. Марчук, И.А. Материалы электроники Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом. Показано можливість використання методу фотолюмінесценції для вивчення механізмів пластичної деформації на границі «оксид кремнію — кремній» в процесі отримання шарів наноструктурованого кремнію деформаційних методом. The possibility of using the photoluminescence method for studying the mechanisms of plastic deformation at the boundary of "SiO₂—Si" in the process of obtaining nanostructured silicon layers by deformation. 2012 Article Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670 537.311.33:622.382.33 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
Russian |
topic |
Материалы электроники Материалы электроники |
spellingShingle |
Материалы электроники Материалы электроники Кулинич, О.А. Яцунский, И.Р. Ештокина, Т.Ю. Брусенская, Г.И. Марчук, И.А. Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
description |
Показана возможность использования метода фотолюминесценции для изучения механизмов пластической деформации на границе «оксид кремния — кремний» в процессе получения слоев наноструктурированного кремния деформационным методом. |
format |
Article |
author |
Кулинич, О.А. Яцунский, И.Р. Ештокина, Т.Ю. Брусенская, Г.И. Марчук, И.А. |
author_facet |
Кулинич, О.А. Яцунский, И.Р. Ештокина, Т.Ю. Брусенская, Г.И. Марчук, И.А. |
author_sort |
Кулинич, О.А. |
title |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» |
title_short |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» |
title_full |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» |
title_fullStr |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» |
title_full_unstemmed |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» |
title_sort |
фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «sio₂—si» |
publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
publishDate |
2012 |
topic_facet |
Материалы электроники |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51670 |
citation_txt |
Фотолюминесцентный метод исследования пластической деформации на границе раздела «SiO₂—Si» / О.А. Кулинич, И.Р. Яцунский, Т.Ю. Ештокина, Г.И. Брусенская, И.А. Марчук // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2012. — № 2. — С. 47-50. — Бібліогр.: 11 назв. — рос. |
series |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
work_keys_str_mv |
AT kuliničoa fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si AT âcunskijir fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si AT eštokinatû fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si AT brusenskaâgi fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si AT marčukia fotolûminescentnyjmetodissledovaniâplastičeskojdeformaciinagranicerazdelasio2si |
first_indexed |
2023-10-18T18:16:47Z |
last_indexed |
2023-10-18T18:16:47Z |
_version_ |
1796143785216835584 |