Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe

Качественные пленки In₂O₃ высокой проводимости получены термическим окислением InSe при невысоких температурах. Обнаружена наноструктуризация поверхности оксида в форме наноигл....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2010
Автори: Катеринчук, В.Н., Ковалюк, З.Д., Хомяк, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2010
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51986
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe ние / В.Н. Катеринчук, З.Д. Ковалюк, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 51-53. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-51986
record_format dspace
spelling irk-123456789-519862013-12-23T03:12:07Z Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe Катеринчук, В.Н. Ковалюк, З.Д. Хомяк, В.В. Материалы электроники Качественные пленки In₂O₃ высокой проводимости получены термическим окислением InSe при невысоких температурах. Обнаружена наноструктуризация поверхности оксида в форме наноигл. Досліджено динаміку поверхневого опору плівок In₂O₃, термічно вирощених на підкладках InSe у двох кристалографічних площинах. Встановлено, що їх опір суттєво змінюється лише на протязі перших 5 хвилин періоду окислення. Збільшення часу окислення не впливає на його еличину, але призводить до трансформації топології поерхні. На зображеннях атомно-силової мікроскопії виявлено наноструктуризацію поверхні оксиду у вигляді наноголок. Їх латеральні та вертикальні розміри, а також їх щільність залежать від температурно-часових факторів. The surface resistance dynamics of oxides grown thermally on InSe substrates in two crystallography planes is obtained. It is determined that resistance changes considerably only during the first 5 minutes of the oxidization period. The increase of an oxidization duration does not influence on its value, but it results in transformation of surface topology. The images of atomic-power microscopy visualize the surface nanostructurization of oxide in the form of nanoneedles. Their lateral and vertical parameters as well as their density are caused by temperature-time factors. 2010 Article Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe ние / В.Н. Катеринчук, З.Д. Ковалюк, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 51-53. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51986 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Материалы электроники
Материалы электроники
spellingShingle Материалы электроники
Материалы электроники
Катеринчук, В.Н.
Ковалюк, З.Д.
Хомяк, В.В.
Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Качественные пленки In₂O₃ высокой проводимости получены термическим окислением InSe при невысоких температурах. Обнаружена наноструктуризация поверхности оксида в форме наноигл.
format Article
author Катеринчук, В.Н.
Ковалюк, З.Д.
Хомяк, В.В.
author_facet Катеринчук, В.Н.
Ковалюк, З.Д.
Хомяк, В.В.
author_sort Катеринчук, В.Н.
title Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
title_short Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
title_full Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
title_fullStr Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
title_full_unstemmed Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe
title_sort электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках inse
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2010
topic_facet Материалы электроники
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/51986
citation_txt Электрические и топологические свойства пленок оксидов, термически выращенных на подложках InSe ние / В.Н. Катеринчук, З.Д. Ковалюк, В.В. Хомяк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2010. — № 5-6. — С. 51-53. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT katerinčukvn élektričeskieitopologičeskiesvojstvaplenokoksidovtermičeskivyraŝennyhnapodložkahinse
AT kovalûkzd élektričeskieitopologičeskiesvojstvaplenokoksidovtermičeskivyraŝennyhnapodložkahinse
AT homâkvv élektričeskieitopologičeskiesvojstvaplenokoksidovtermičeskivyraŝennyhnapodložkahinse
first_indexed 2023-10-18T18:17:29Z
last_indexed 2023-10-18T18:17:29Z
_version_ 1796143815771291648