Оптимизация изготовления высоковольтного горизонтального р-канального МОП-транзистора

• Дата: 2006
• Автори: Леонов, Н.И., Лемешевская, А.М., Дудар, Н.Л., Гетьман, С.Н.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2006
• Назва видання: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Теми: Функциональная микро- и наноэлектроника
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52971
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Оптимизация изготовления высоковольтного горизонтального р-канального МОП-транзистора / Н.И. Леонов, А.М. Лемешевская, Н.Л. Дудар, С.Н. Гетьман // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2006. — № 4. — С. 45-47. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Определены конструкция, удельное сопротивление эпитаксиальной пленки и толщина подзатворного окисла, при которых получены требуемые значения порогового напряжения транзистора.