Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄

Экспериментальные исследования показали, что использование двухслойногоe диэлектрика SiO₂/Si₃N₄ перспективноe для пассивации поверхности матричных HgCdTe-фотодиодов для инфракрасного диапазона....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Войцеховский, А.В., Несмелов, С.Н., Кульчицкий Н.А.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2005
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53606
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄ / А.В. Войцеховский, С.Н. Несмелов, Н.А. Кульчицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 4. — С. 35-38. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-53606
record_format dspace
spelling irk-123456789-536062014-01-26T03:09:20Z Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄ Войцеховский, А.В. Несмелов, С.Н. Кульчицкий Н.А. Функциональная микро- и наноэлектроника Экспериментальные исследования показали, что использование двухслойногоe диэлектрика SiO₂/Si₃N₄ перспективноe для пассивации поверхности матричных HgCdTe-фотодиодов для инфракрасного диапазона. 2005 Article Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄ / А.В. Войцеховский, С.Н. Несмелов, Н.А. Кульчицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 4. — С. 35-38. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53606 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Функциональная микро- и наноэлектроника
Функциональная микро- и наноэлектроника
spellingShingle Функциональная микро- и наноэлектроника
Функциональная микро- и наноэлектроника
Войцеховский, А.В.
Несмелов, С.Н.
Кульчицкий Н.А.
Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Экспериментальные исследования показали, что использование двухслойногоe диэлектрика SiO₂/Si₃N₄ перспективноe для пассивации поверхности матричных HgCdTe-фотодиодов для инфракрасного диапазона.
format Article
author Войцеховский, А.В.
Несмелов, С.Н.
Кульчицкий Н.А.
author_facet Войцеховский, А.В.
Несмелов, С.Н.
Кульчицкий Н.А.
author_sort Войцеховский, А.В.
title Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
title_short Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
title_full Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
title_fullStr Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
title_full_unstemmed Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄
title_sort емкостные свойства мдп-структур hgcdte/sio₂/si₃n₄
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2005
topic_facet Функциональная микро- и наноэлектроника
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53606
citation_txt Емкостные свойства МДП-структур HgCdTe/SiO₂/Si₃N₄ / А.В. Войцеховский, С.Н. Несмелов, Н.А. Кульчицкий // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 4. — С. 35-38. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT vojcehovskijav emkostnyesvojstvamdpstrukturhgcdtesio2si3n4
AT nesmelovsn emkostnyesvojstvamdpstrukturhgcdtesio2si3n4
AT kulʹčickijna emkostnyesvojstvamdpstrukturhgcdtesio2si3n4
first_indexed 2023-10-18T18:21:05Z
last_indexed 2023-10-18T18:21:05Z
_version_ 1796143977059057664