2025-02-23T23:00:36-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-53682%22&qt=morelikethis&rows=5

2025-02-23T23:00:36-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-53682%22&qt=morelikethis&rows=5

2025-02-23T23:00:36-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK

2025-02-23T23:00:36-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов

Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда....

Full description

Saved in:

Bibliographic Details
Main Authors:	Григорьянц, В.В., Долгов, А.П., Кочмарёв, Л.Ю., Шилов, И.П.
Format:	Article
Language:	Russian
Published:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2005
Series:	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Subjects:	Технологические процессы и оборудование
Online Access:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53682
Tags:	Add Tag No Tags, Be the first to tag this record!

id	irk-123456789-53682
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-536822014-01-26T03:11:16Z СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. Технологические процессы и оборудование Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F \| SiO₂ \| SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда. 2005 Article СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53682 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
topic	Технологические процессы и оборудование Технологические процессы и оборудование
spellingShingle	Технологические процессы и оборудование Технологические процессы и оборудование Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П. СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description	Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F \| SiO₂ \| SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда.
format	Article
author	Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П.
author_facet	Григорьянц, В.В. Долгов, А.П. Кочмарёв, Л.Ю. Шилов, И.П.
author_sort	Григорьянц, В.В.
title	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
title_short	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
title_full	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
title_fullStr	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
title_full_unstemmed	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
title_sort	свч плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate	2005
topic_facet	Технологические процессы и оборудование
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53682
citation_txt	СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
series	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv	AT grigorʹâncvv svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT dolgovap svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT kočmarëvlû svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov AT šilovip svčplazmohimičeskoeosaždeniestrukturdlâvysokoaperturnyhplanarnyhoptičeskihvolnovodov
first_indexed	2023-10-18T18:21:17Z
last_indexed	2023-10-18T18:21:17Z
_version_	1796143985094295552

СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов

Similar Items