Электрохимическое осаждение серебра в присутствии детонационных алмазосодержащих добавок

Исследовано влияние детонационных алмазосодержащих добавок (детонационных наноалмазов марки ДНА-ТАН, алмазосодержащей шихты АШ нефракционированной и окисленной) на качество серебряных покрытий, полученных из дицианаргентатнороданистого электролита. Показано, что в присутствии добавок электропроводно...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Дата:2011
Автори: Буркат, Г.К., Долматов, В.Ю., Mullymaki, V.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2011
Назва видання:Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/63249
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Электрохимическое осаждение серебра в присутствии детонационных алмазосодержащих добавок / Г.К. Буркат, В.Ю. Долматов, V. Mullymaki // Породоразрушающий и металлообрабатывающий инструмент – техника и технология его изготовления и применения: Сб. науч. тр. — К.: ІНМ ім. В.М. Бакуля НАН України, 2011. — Вип. 14. — С. 277-283. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследовано влияние детонационных алмазосодержащих добавок (детонационных наноалмазов марки ДНА-ТАН, алмазосодержащей шихты АШ нефракционированной и окисленной) на качество серебряных покрытий, полученных из дицианаргентатнороданистого электролита. Показано, что в присутствии добавок электропроводность электролита повышается, микротвердость покрытия повышается на 30–40% по сравнению с микротвердостью чистого серебра, резко снижается пористость покрытий (с 65 до 2 пор на 1 см2), их износостойкость повышается в 5 раз.