Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃
Предложена методика расчета параметров пленок многокомпонентной системы HfO₂—Nd₂O₃, полученных электронно-лучевым напылением в вакууме, с неоднородным распределением компонентов по толщине. Данные расчета хорошо коррелируют с результатами эксперимента, что позволяет получать пленки с заданными диэле...
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2003
|
| Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70600 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ / А.И. Казаков, А.В. Андриянов, В.С. Миронов, О.В. Поляруш // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 1. — С. 52-54. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-70600 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-706002014-11-09T03:01:44Z Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ Казаков, А.И. Андриянов, А.В. Миронов, В.С. Поляруш, О.В. Материалы электроники Предложена методика расчета параметров пленок многокомпонентной системы HfO₂—Nd₂O₃, полученных электронно-лучевым напылением в вакууме, с неоднородным распределением компонентов по толщине. Данные расчета хорошо коррелируют с результатами эксперимента, что позволяет получать пленки с заданными диэлектрическими характеристиками в широком частотном диапазоне. Результаты расчета использовались для оптимизации параметров тонкопленочных излучателей с диэлектрической пленкой системы HfO₂—Nd₂O₃. The calculation technique of film parameters of multicomponent system HfO₂—Nd₂O₃, obtained electron beam evaporation in vacuum, with non-uniform distribution of components on thickness is offered. The calculation data well correlate with results of experiment, that allows to obtained of a film with given dielectrical characteristics in a wide frequency range. The calculation results were used for optimization of parameters thin-film emitter with the dielectrical film of system HHfO₂—Nd₂O₃. 2003 Article Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ / А.И. Казаков, А.В. Андриянов, В.С. Миронов, О.В. Поляруш // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 1. — С. 52-54. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70600 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| topic |
Материалы электроники Материалы электроники |
| spellingShingle |
Материалы электроники Материалы электроники Казаков, А.И. Андриянов, А.В. Миронов, В.С. Поляруш, О.В. Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description |
Предложена методика расчета параметров пленок многокомпонентной системы HfO₂—Nd₂O₃, полученных электронно-лучевым напылением в вакууме, с неоднородным распределением компонентов по толщине. Данные расчета хорошо коррелируют с результатами эксперимента, что позволяет получать пленки с заданными диэлектрическими характеристиками в широком частотном диапазоне. Результаты расчета использовались для оптимизации параметров тонкопленочных излучателей с диэлектрической пленкой системы HfO₂—Nd₂O₃. |
| format |
Article |
| author |
Казаков, А.И. Андриянов, А.В. Миронов, В.С. Поляруш, О.В. |
| author_facet |
Казаков, А.И. Андриянов, А.В. Миронов, В.С. Поляруш, О.В. |
| author_sort |
Казаков, А.И. |
| title |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ |
| title_short |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ |
| title_full |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ |
| title_fullStr |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ |
| title_full_unstemmed |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ |
| title_sort |
расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы hfo₂—nd₂o₃ |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| publishDate |
2003 |
| topic_facet |
Материалы электроники |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70600 |
| citation_txt |
Расчет частотной зависимости диэлектрических характеристик тонких пленок системы HfO₂—Nd₂O₃ / А.И. Казаков, А.В. Андриянов, В.С. Миронов, О.В. Поляруш // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 1. — С. 52-54. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| series |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| work_keys_str_mv |
AT kazakovai rasčetčastotnojzavisimostidiélektričeskihharakteristiktonkihplenoksistemyhfo2nd2o3 AT andriânovav rasčetčastotnojzavisimostidiélektričeskihharakteristiktonkihplenoksistemyhfo2nd2o3 AT mironovvs rasčetčastotnojzavisimostidiélektričeskihharakteristiktonkihplenoksistemyhfo2nd2o3 AT polârušov rasčetčastotnojzavisimostidiélektričeskihharakteristiktonkihplenoksistemyhfo2nd2o3 |
| first_indexed |
2023-10-18T18:58:53Z |
| last_indexed |
2023-10-18T18:58:53Z |
| _version_ |
1796145682196725760 |