Установка толстослойного анодирования алюминия

С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных сл...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2003
Автори:	Сокол, В.А., Игнашев, Е.П.
Формат:	Стаття
Мова:	Russian
Опубліковано:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
Назва видання:	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:	Технология производства
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70611
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	irk-123456789-70611
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-706112014-11-10T03:02:01Z Установка толстослойного анодирования алюминия Сокол, В.А. Игнашев, Е.П. Технология производства С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных слоев толщиной до 0,4 мм на основаниях размерами от 48×60 мм до 100×100 мм и подложек из свободного анодного оксида толщиной до 1 мм с высокими физико-механическими свойствами без разрыхления оксида. As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening. As a rule, in the devices used for obtaining bases out of anodized aluminium the deprivation of the plates of Joule heat during anodizing is carried out by a static electrolyte. That, however, doesn't necessarily lead to plates' overheating and etching of the oxide layer. In order to increase the efficiency of plates' coding it is proposed to carry out thick-wall anodizing parallel with their continuous motion. This principle is laid into basis of a dynamic anodizing device,which provides oxide layers up to 0,4 mm thick and having dimensions from 48×60 up to 100×100 mm, as well as the base plates up to 1 mm thick, having strong and weak mechanical properties, causing no oxide loosening. 2003 Article Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70611 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
topic	Технология производства Технология производства
spellingShingle	Технология производства Технология производства Сокол, В.А. Игнашев, Е.П. Установка толстослойного анодирования алюминия Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description	С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных слоев толщиной до 0,4 мм на основаниях размерами от 48×60 мм до 100×100 мм и подложек из свободного анодного оксида толщиной до 1 мм с высокими физико-механическими свойствами без разрыхления оксида.
format	Article
author	Сокол, В.А. Игнашев, Е.П.
author_facet	Сокол, В.А. Игнашев, Е.П.
author_sort	Сокол, В.А.
title	Установка толстослойного анодирования алюминия
title_short	Установка толстослойного анодирования алюминия
title_full	Установка толстослойного анодирования алюминия
title_fullStr	Установка толстослойного анодирования алюминия
title_full_unstemmed	Установка толстослойного анодирования алюминия
title_sort	установка толстослойного анодирования алюминия
publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate	2003
topic_facet	Технология производства
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70611
citation_txt	Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
series	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv	AT sokolva ustanovkatolstoslojnogoanodirovaniâalûminiâ AT ignaševep ustanovkatolstoslojnogoanodirovaniâalûminiâ
first_indexed	2023-10-18T18:58:54Z
last_indexed	2023-10-18T18:58:54Z
_version_	1796145683363790848

Установка толстослойного анодирования алюминия

Репозитарії

Схожі ресурси