Установка толстослойного анодирования алюминия

• Дата: 2003
• Автори: Сокол, В.А., Игнашев, Е.П.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2003
• Назва видання: Технология и конструирование в электронной аппаратуре
• Теми: Технология производства
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70611
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Установка толстослойного анодирования алюминия / В.А. Сокол, Е.П. Игнашев // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2003. — № 2. — С. 40-41. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

С целью повышения эффективности охлаждения пластин при получении оснований из анодированного алюминия предложено производить процесс толстослойного анодирования при непрерывном движении пластин. На этом принципе создана установка динамического анодирования, которая обеспечивает получение оксидных сл...