Регенерируемый цитратный раствор химического никелирования
Предложен слабокислый цитратный раствор химического никелирования, содержащий ускоряющую и стабилизирующую добавки, отличающийся достаточно высокой скоростью осаждения покрытий, содержащих до 11 мас.% фосфора. Отработанный раствор можно легко обезвредить, а также и регенерировать путем осаждения ник...
Збережено в:
Дата: | 2002 |
---|---|
Автори: | Тарозайте, Р., Гилене, О. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2002
|
Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70790 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Регенерируемый цитратный раствор химического никелирования / Р. Тарозайте, О. Гилене // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 4-5. — С. 43-46. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Осаждение ЭДТА из комплексных растворов тяжелых металлов и его регенерирование
за авторством: Гилене, О., та інші
Опубліковано: (2004) -
Влияние обработки поверхности и нагрева на высоту потенциального барьера контактов к SiC
за авторством: Агеев, О.А., та інші
Опубліковано: (2001) -
Формирование столбиковых выводов для GaAs пиксельных детекторов
за авторством: Беришвили, З.В., та інші
Опубліковано: (2004) -
Малоинерционный линейный термопреобразователь сопротивления
за авторством: Брайловский, В.В., та інші
Опубліковано: (2001) -
Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки
за авторством: Светличный, А.М., та інші
Опубліковано: (2001)