2025-02-22T10:20:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-70811%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:20:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-70811%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:20:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-22T10:20:00-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Плазменная технология формирования субмикронных структур БИС

Плазменная технология формирования субмикронных структур БИС

Исследованы высокочастотные плазменные процессы осаждения и травления функциональных слоев при формировании структур БИС с топологическими размерами 0,5—0,8 мкм. Технология обеспечивает минимально привносимую дефектность функциональных слоев (<0,05 см⁻²), не влияет на зарядовое состояние границы...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: Новосядлый, С.П.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2002
Series:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Subjects:
Интегральные схемы и полупроводниковые приборы
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70811
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

Internet

http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70811

Similar Items