Малоинерционный линейный термопреобразователь сопротивления
Предложена тонкопленочная технология миниатюризации объемных медных термопреобразователей сопротивления. Термочувствительный слой формировался на жесткой подложке. Формирование бифилярной структуры осуществлялось с использованием процессов фотолитографии. Механическая прочность слоев и их временная...
Збережено в:
| Дата: | 2001 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2001
|
| Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70842 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Малоинерционный линейный термопреобразователь сопротивления / В.В. Брайловский, О.Е. Иларионов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2001. — № 2. — С. 47-48. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Предложена тонкопленочная технология миниатюризации объемных медных термопреобразователей сопротивления. Термочувствительный слой формировался на жесткой подложке. Формирование бифилярной структуры осуществлялось с использованием процессов фотолитографии. Механическая прочность слоев и их временная стабильность обеспечивалась использованием адгезионного и трехслойного защитного слоя. Напыление адгезионного и защитного слоев Ti–W осуществлялось в едином технологическом цикле. |
|---|