Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя

Теоретически изучаются особенности осаждения атомов на поверхность. Предполагается, что условия осаждения обеспечивают формирование только одного слоя. Основное внимание обращается на особенности микрораспределений в пределах монослоя и ожидаемое влияние этих особенностей на наблюдаемые свойства по...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автори: Долгов, А.С., Лорент, А.Л.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/75999
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя / А.С. Долгов, А.Л. Лорент // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 25–31. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-75999
record_format dspace
spelling irk-123456789-759992015-02-08T03:01:50Z Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя Долгов, А.С. Лорент, А.Л. Теоретически изучаются особенности осаждения атомов на поверхность. Предполагается, что условия осаждения обеспечивают формирование только одного слоя. Основное внимание обращается на особенности микрораспределений в пределах монослоя и ожидаемое влияние этих особенностей на наблюдаемые свойства поверхности. Выявлены условия реализации разных форм заполнения поверхности: разреженная пленка, сплошное покрытие, пятнистая и мозаичная структуры. Обсуждаются изменения распределений при варьировании температуры и возможности практического использования полученной информации. Теоретично вивчаються особливості осадження атомів на поверхню. Припускається, що умови осадження забезпечують формування лише одного шару. Головним чином увага звертається на особливості мікророзподілів в межах моношару та очікуваний вплив цих особливостей на спостережувані властивості поверхні. Виявлені умови реалізації різних форм заповнення поверхні: розріджена плівка, безперервне покриття, плямиста та мозаїчна структури. Обговорюються зміни розподілень під час варіювання температури та можливості практичного використання отриманої інформації. Peculiarities of atoms sedimentation on the surface are theoretically explored. It is assumed that sedimentation conditions provide only one film formation. This article is zeroed in microdistributions’ peculiarities within monolayer and theirs expected influence on the observed surface properties. Implementation conditions for different forms of surface filling are revealed: thinned film, continuous coating, speckled and mosaic structures. The variation of distributions when temperature varies and possibility of obtained information practical use are discussed. 2011 Article Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя / А.С. Долгов, А.Л. Лорент // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 25–31. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/75999 621.793.1:539.23 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Теоретически изучаются особенности осаждения атомов на поверхность. Предполагается, что условия осаждения обеспечивают формирование только одного слоя. Основное внимание обращается на особенности микрораспределений в пределах монослоя и ожидаемое влияние этих особенностей на наблюдаемые свойства поверхности. Выявлены условия реализации разных форм заполнения поверхности: разреженная пленка, сплошное покрытие, пятнистая и мозаичная структуры. Обсуждаются изменения распределений при варьировании температуры и возможности практического использования полученной информации.
format Article
author Долгов, А.С.
Лорент, А.Л.
spellingShingle Долгов, А.С.
Лорент, А.Л.
Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
Физическая инженерия поверхности
author_facet Долгов, А.С.
Лорент, А.Л.
author_sort Долгов, А.С.
title Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
title_short Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
title_full Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
title_fullStr Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
title_full_unstemmed Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
title_sort распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2011
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/75999
citation_txt Распределение атомов на поверхности при конденсации моноатомного слоя / А.С. Долгов, А.Л. Лорент // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 1. — С. 25–31. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT dolgovas raspredelenieatomovnapoverhnostiprikondensaciimonoatomnogosloâ
AT lorental raspredelenieatomovnapoverhnostiprikondensaciimonoatomnogosloâ
first_indexed 2023-10-18T19:09:54Z
last_indexed 2023-10-18T19:09:54Z
_version_ 1796146177023934464