Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки (GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном...
Збережено в:
| Дата: | 2008 |
|---|---|
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
2008
|
| Назва видання: | Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76206 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией / Ю.А. Первак, В.Ю. Первак // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2008. — Т. 6, № 4. — С. 1103-1110 . — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки
(GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном спектральном диапазоне равно 1544, 2056
и 2544 фс, а величина пространственной дисперсии – 2,55, 3,4 и 4,2
мкм/нм соответственно. Высокая пространственная дисперсия полученных структур и линейность спектральной зависимости групповой задержки обеспечивают высокую отрицательную дисперсию групповой задержки (< 2⋅10⁻⁵ фс²). |
|---|