Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией

Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией

Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки (GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Первак, Ю.А., Первак, В.Ю.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2008
Назва видання:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76206
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией / Ю.А. Первак, В.Ю. Первак // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2008. — Т. 6, № 4. — С. 1103-1110 . — Бібліогр.: 21 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-76206
record_format dspace
spelling irk-123456789-762062015-10-31T18:45:19Z Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией Первак, Ю.А. Первак, В.Ю. Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки (GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном спектральном диапазоне равно 1544, 2056 и 2544 фс, а величина пространственной дисперсии – 2,55, 3,4 и 4,2 мкм/нм соответственно. Высокая пространственная дисперсия полученных структур и линейность спектральной зависимости групповой задержки обеспечивают высокую отрицательную дисперсию групповой задержки (< 2⋅10⁻⁵ фс²). Синтезовано багатошарові структури з 138, 165 і 202 шарів Nb₂O₅ та SiO₂, що чергуються, на склянім підложжі. Структури характеризуються лінійною спектральною залежністю групової затримки (GD) у діяпазоні від 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- і 202-шарових структур зміна GD у зазначенім спектральнім діяпазоні складала 1544, 2056 і 2544 фс, а величина просторової дисперсії – 2,55, 3,4 і 4,2 мкм/нм відповідно. Висока просторова дисперсія одержаних структур і лінійність спектральної залежности групової затримки забезпечують високу неґативну дисперсію групової затримки (< 2⋅10⁻⁵ фс²). The multilayer structures, which consist of 138, 165 and 202 alternating layers of Nb₂O₅ and SiO₂ on the glass substrate, are synthesized. All structures have the linear spectral dependence of the group delay (GD) at range from 1520 to 1560 nm. The GD change in the range indicated is 1544, 2056 and 2544 fs, and the value of spatial dispersion is 2.55 μm/nm, 3.4 μm/nm and 4.2 μm/nm for 138-, 165- and 202-layers structure, respectively. The high spatial dispersion of fabricated structures and the linearity of spectral dependence of the group delay provide high negative group-delay dispersion (< 2⋅10⁻⁵ fs² ). 2008 Article Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией / Ю.А. Первак, В.Ю. Первак // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2008. — Т. 6, № 4. — С. 1103-1110 . — Бібліогр.: 21 назв. — рос. 1816-5230 PACS numbers: 42.50.Nn,42.65.Re,42.79.Fm,42.79.Wc,78.47.-p,78.67.Pt,82.53.Mj http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76206 ru Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки (GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном спектральном диапазоне равно 1544, 2056 и 2544 фс, а величина пространственной дисперсии – 2,55, 3,4 и 4,2 мкм/нм соответственно. Высокая пространственная дисперсия полученных структур и линейность спектральной зависимости групповой задержки обеспечивают высокую отрицательную дисперсию групповой задержки (< 2⋅10⁻⁵ фс²).
format Article
author Первак, Ю.А.
Первак, В.Ю.
spellingShingle Первак, Ю.А.
Первак, В.Ю.
Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
author_facet Первак, Ю.А.
Первак, В.Ю.
author_sort Первак, Ю.А.
title Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
title_short Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
title_full Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
title_fullStr Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
title_full_unstemmed Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
title_sort многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
publishDate 2008
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76206
citation_txt Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией / Ю.А. Первак, В.Ю. Первак // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2008. — Т. 6, № 4. — С. 1103-1110 . — Бібліогр.: 21 назв. — рос.
series Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
work_keys_str_mv AT pervakûa mnogoslojnyenanostrukturysvysokojvremennojiprostranstvennojdispersiej
AT pervakvû mnogoslojnyenanostrukturysvysokojvremennojiprostranstvennojdispersiej
first_indexed 2023-10-18T19:11:35Z
last_indexed 2023-10-18T19:11:35Z
_version_ 1796146243923083264

Схожі ресурси