Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки - Литвиненко, В.В.; Родионов, В.Е.; Родионова, Н.А.; Шмидко, И.Н. (Физическая инженерия поверхности, 2011)
В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при высокотемпературной обработке. Показано, что смещение пика ИК поглощения прямо связано с количеством кислорода в оксиде кремния, полученном вакуумным электронно-лучевым испарением.