2025-02-23T03:14:03-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-78218%22&qt=morelikethis&rows=5

2025-02-23T03:14:03-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-78218%22&qt=morelikethis&rows=5

2025-02-23T03:14:03-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK

2025-02-23T03:14:03-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди

Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глуб...

Full description

Saved in:

Bibliographic Details
Main Authors:	Сафонов, В.И., Марченко, И.Г., Картмазов, Г.Н., Дикий, Н.И.
Format:	Article
Language:	Russian
Published:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2000
Series:	Вопросы атомной науки и техники
Subjects:	Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел
Online Access:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78218
Tags:	Add Tag No Tags, Be the first to tag this record!

id	irk-123456789-78218
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-782182015-03-13T03:02:30Z Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом. 2000 Article Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78218 533.9 ru Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	Russian
topic	Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел
spellingShingle	Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И. Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди Вопросы атомной науки и техники
description	Исследовался процесс низкоэнергетичного (Е<З кэВ ) облучения поверхности меди ионами Ti и Al из сепарированного потока плазмы вакуумной дуги. Представлены результаты измерения концентрационных профилей титана и алюминия в зависимости от дозы облучения и температуры подложки. Установлено, что глубина залегания бомбардируемых ионов существенно превышает проекционный пробег ионов и зависит от температуры подложки и вида ионов. Процесс накопления внедренных примесей Ti и Al является термоактивируемым, с характерной энергией 7…15 кДж/г.моль. Одним из объяснений полученных результатов является радиационно-стимулированная диффузия внедренной примеси по междоузельному механизму. Данные, полученные методом ядерных реакций, коррелируют с измерениями внедренной дозы, полученными рентгенофлюоресцентным методом.
format	Article
author	Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И.
author_facet	Сафонов, В.И. Марченко, И.Г. Картмазов, Г.Н. Дикий, Н.И.
author_sort	Сафонов, В.И.
title	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
title_short	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
title_full	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
title_fullStr	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
title_full_unstemmed	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
title_sort	формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди
publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate	2000
topic_facet	Облучательная техника, ядерно-физические методы исследования структуры и свойств твердых тел
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78218
citation_txt	Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди / В.И. Сафонов, И.Г. Марченко, Г.Н. Картмазов, Н.И. Дикий // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 182-184. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
series	Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv	AT safonovvi formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT marčenkoig formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT kartmazovgn formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi AT dikijni formirovaniepripoverhnostnyhsloevprinizkoénergetičnomvysokodoznomionnoplazmennomoblučeniipoverhnostimedi
first_indexed	2023-10-18T19:15:56Z
last_indexed	2023-10-18T19:15:56Z
_version_	1796146446514257920

Формирование приповерхностных слоев при низкоэнергетичном высокодозном ионно-плазменном облучении поверхности меди

Similar Items