Определение параметров уровней прилипания, ответственных за фотоэлектретное состояние в пленках теллурида кадмия
В статье показана возможность определения параметров уровней прилипания, ответственных за фотоэлектретное состояние с помощью релаксационных кривых в пленках теллурида кадмия, легированных серебром....
Збережено в:
Дата: | 2008 |
---|---|
Автор: | Набиев, Г.А. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2008
|
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7864 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Определение параметров уровней прилипания, ответственных за фотоэлектретное состояние в пленках теллурида кадмия / Г.А. Набиев // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 89-91. — Бібліогр.: 10 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Фотоэлектретное состояние без внешнего поляризующего поля в однородных полупроводниках
за авторством: Мирзаева, З.И., та інші
Опубліковано: (2008) -
Фотоелектрические свойства диодов на основе монокристаллического теллурида кадмия с модифицированной поверхностью
за авторством: Александрюк, Т.Ю., та інші
Опубліковано: (2008) -
Влияние обработки водородом монокристаллов теллурида кадмия на их спектры оптического пропускания
за авторством: Пигур, О.Н., та інші
Опубліковано: (2011) -
Теория АФН-эффекта с демберовским механизмом в полупроводниковых пленках
за авторством: Набиев, Г.А.
Опубліковано: (2008) -
Техническая диагностика ответственных объектов
Опубліковано: (2011)