Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданс...
Збережено в:
| Дата: | 2008 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2008
|
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7889 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-7889 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-78892010-04-21T12:02:16Z Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности Рафальский, Д.В. Дудин, С.В. Положий, К.И. В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами. У роботі описані експериментальні дослідження імпедансу індуктора в циліндричному джерелі плазми ВЧ індукційного типу. Представлено результати вимірів напруги на індукторі, ефективні індуктивності й опори. Зроблено висновок, що у випадку плазми низької щільності мнимою частиною імпедансу плазми й геометричною індуктивністю плазми можна знехтувати. З використанням цього підходу отримані прості вираження для ефективного імпедансу індуктора, які добре погодяться з експериментальними результатами. This paper describes experimental investigations of an inductive coil impedance in the cylindrical inductively coupled low density RF plasma source. Detailed measurements of the inductive coil voltage, effective inductance and resistance are reported. It is concluded that in the case of low plasma density imaginary part of the plasma impedance and geometrical plasma inductance can be neglected. Using this approach simple expressions for the effective inductor impedance have been obtained, being in good agreement with the experimental data. 2008 Article Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7889 ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданса плазмы и геометрической индуктивностью плазмы можно пренебречь. С использованием этого подхода получены простые выражения для эффективного импеданса индуктора, которые хорошо согласуются с экспериментальными результатами. |
| format |
Article |
| author |
Рафальский, Д.В. Дудин, С.В. Положий, К.И. |
| spellingShingle |
Рафальский, Д.В. Дудин, С.В. Положий, К.И. Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| author_facet |
Рафальский, Д.В. Дудин, С.В. Положий, К.И. |
| author_sort |
Рафальский, Д.В. |
| title |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| title_short |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| title_full |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| title_fullStr |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| title_full_unstemmed |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| title_sort |
возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2008 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7889 |
| citation_txt |
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT rafalʹskijdv vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodejstvuûŝegosplazmojnizkojplotnosti AT dudinsv vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodejstvuûŝegosplazmojnizkojplotnosti AT položijki vozmuŝenieimpedansainduktoravzaimodejstvuûŝegosplazmojnizkojplotnosti |
| first_indexed |
2023-10-18T16:38:34Z |
| last_indexed |
2023-10-18T16:38:34Z |
| _version_ |
1796139513148342272 |