Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition

• Дата: 2005
• Автори: Fedorchenko, V.D., Byrka, O.V., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Tereshin, V.I.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Low temperature plasma and plasma technologies
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79155
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreas...