О глубине зоны модификации свойств (упрочнения) материалов облучением при Т ≤ 100 °С низкоэнергетической плазмой тлеющего разряда
Макроскопический масштаб модифицированной (упрочненной) зоны установлен на основании результатов измерений распределения микротвердости по глубине (до ~ 2,5 мм) исходных деформированных, отожженных (600 °С; 2,5 часа) и облученных низкоэнергетической плазмой тлеющего разряда при T ≤ 100 °С образцов α...
Збережено в:
Дата: | 2009 |
---|---|
Автори: | Кунченко, Ю.В., Кунченко, В.В., Картмазов, Г.Н. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2009
|
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7949 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | О глубине зоны модификации свойств (упрочнения) материалов облучением при Т ≤ 100 °С низкоэнергетической плазмой тлеющего разряда / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко Г.Н. Картмазов // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 1-2. — С. 46-53. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Влияние нестабильного, низкоэнергетического тлеющего разряда на свойства облучаемых материалов в процессе вакуумно-дугового осажднния покрытий
за авторством: Кунченко, Ю.В., та інші
Опубліковано: (2009) -
Условия воспламенения угольной пыли плазмой СВЧ-разряда
за авторством: Тымчик, А.В.
Опубліковано: (2011) -
Нагрев частиц угольной пыли плазмой СВЧ-разряда
за авторством: Тымчик, А.В., та інші
Опубліковано: (2014) -
Модификация свойств бинарных полупроводников под облучением. Индуцированная облучением сверхпроводимость
за авторством: Михайловский, В.В., та інші
Опубліковано: (2007) -
Методика моделирования технологических источников электронов высоковольтного тлеющего разряда
за авторством: Мельник, И.В., та інші
Опубліковано: (2010)