Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь

Установлен аналитический вид зависимости выхода g, при котором дистилляция и нормальная направленная кристаллизация двойной системы имеют одинаковую эффективность от коэффициентов распределения: g = α1/(k-1) при α < 1, k > 1 и g = k1/(α-1) при α > 1, k < 1 (α и k – коэффициенты межфазово...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Видавець:Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Дата:2014
Автор: Кравченко, А.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2014
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79906
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь /А.И. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 46-47. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-79906
record_format dspace
spelling irk-123456789-799062015-04-09T03:01:51Z Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь Кравченко, А.И. Чистые материалы и вакуумные технологии Установлен аналитический вид зависимости выхода g, при котором дистилляция и нормальная направленная кристаллизация двойной системы имеют одинаковую эффективность от коэффициентов распределения: g = α1/(k-1) при α < 1, k > 1 и g = k1/(α-1) при α > 1, k < 1 (α и k – коэффициенты межфазового распределения примеси при дистилляции и при кристаллизации соответственно). Вычислены значения g для ряда систем основа–примесь: Ge-Al, Тe-Se, Тe-Pb, Ge-Be, Ge-Si, Ge-Ga, Ge-As, Ge-B, Zn-Cd (< 0,1; ≈ 0,1; ≈ 0,5; ≈ 0,6; ≈ 0,7; ≈ 0,7; ≈ 0,8; ≈ 0,8 и ≈ 0,8 соответственно). Установлено аналітичний вид залежності виходу g, при якому дистиляція i нормальна направлена кристалізація подвійної системи мають однакову ефективність від коефіцієнтів розподілу: g = α1/(k-1) при α < 1, k > 1 і g = k1/(α-1) при α > 1, k < 1 (α і k – коефiцiєнти міжфазового розподiлу домiшки при дистиляцiї та кристалізації відповідно). Розрахованi значення g для ряду систем основа–домiшка: Ge-Al, Тe-Se, Тe-Pb, Ge-Be, Ge-Si, Ge-Ga, Ge-As, Ge-B, Zn-Cd (< 0,1; ≈ 0,1; ≈ 0,5; ≈ 0,6; ≈ 0,7; ≈ 0,7; ≈ 0,8; ≈ 0,8 і ≈ 0,8 відповідно). The analytic view of the yield g (when the efficiency of distillation and normal directional crystallization are equal) from coefficients of distribution have been ascertained: g = α1/(k-1) at α < 1, k > 1 and g = k1/(α-1) at α > 1, k < 1 (α and k are coefficients of distribution at distillation and crystallization correspondingly). The values of g for line of systems (Ge-Al, Тe-Se, Тe-Pb, Ge-Be, Ge-Si, Ge-Ga, Ge-As, Ge-B, Zn-Cd) have been calculated (< 0,1; ≈ 0,1; ≈ 0,5; ≈ 0,6; ≈ 0,7; ≈ 0,7; ≈ 0,8; ≈ 0,8 и ≈ 0,8 correspondingly). 2014 Article Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь /А.И. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 46-47. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. 1562-6016 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79906 541:54.058 ru Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Чистые материалы и вакуумные технологии
Чистые материалы и вакуумные технологии
spellingShingle Чистые материалы и вакуумные технологии
Чистые материалы и вакуумные технологии
Кравченко, А.И.
Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
Вопросы атомной науки и техники
description Установлен аналитический вид зависимости выхода g, при котором дистилляция и нормальная направленная кристаллизация двойной системы имеют одинаковую эффективность от коэффициентов распределения: g = α1/(k-1) при α < 1, k > 1 и g = k1/(α-1) при α > 1, k < 1 (α и k – коэффициенты межфазового распределения примеси при дистилляции и при кристаллизации соответственно). Вычислены значения g для ряда систем основа–примесь: Ge-Al, Тe-Se, Тe-Pb, Ge-Be, Ge-Si, Ge-Ga, Ge-As, Ge-B, Zn-Cd (< 0,1; ≈ 0,1; ≈ 0,5; ≈ 0,6; ≈ 0,7; ≈ 0,7; ≈ 0,8; ≈ 0,8 и ≈ 0,8 соответственно).
format Article
author Кравченко, А.И.
author_facet Кравченко, А.И.
author_sort Кравченко, А.И.
title Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
title_short Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
title_full Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
title_fullStr Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
title_full_unstemmed Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
title_sort сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2014
topic_facet Чистые материалы и вакуумные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79906
citation_txt Сравнение дистилляционного и кристаллизационного рафинирования некоторых систем основа–примесь /А.И. Кравченко // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 46-47. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT kravčenkoai sravneniedistillâcionnogoikristallizacionnogorafinirovaniânekotoryhsistemosnovaprimesʹ
first_indexed 2023-10-18T19:19:45Z
last_indexed 2023-10-18T19:19:45Z
_version_ 1796146619744256000