Electron sources for plasma electronics and different technological application
There are the following advantages of applying electron guns with plasma cathodes in devices exciting microwave radiation: stability of their parameters, high density of current, relative insensitivity to ion bombardment and the possibility of operating over a wide range of pressure values of a plas...
Збережено в:
Дата: | 2002 |
---|---|
Автори: | Antipov, V.S., Bez’yazyshny, I.A., Berezhnaya, I.V., Kornilov, E.A. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/80310 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Electron sources for plasma electronics and different technological application / V.S. Antipov, I.A. Bez’yazyshny, I.V. Berezhnaya, E.A. Kornilov // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 155-157. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
The multifrequency low-voltage plasma-beam generator
за авторством: Antipov, V.S., та інші
Опубліковано: (2007) -
Amplification and excitation of microwaves by an electron beam in a disk-loaded coaxial hybrid waveguide
за авторством: Antipov, V.S., та інші
Опубліковано: (2005) -
The analysis of operation of plasma-filled helical TWT taking into account spatial harmonics
за авторством: Antipov, V.S., та інші
Опубліковано: (2008) -
Nonrelativistic plasma HF-electronics
за авторством: Onishchenko, I.N.
Опубліковано: (2005) -
Relativistic electron beam pinching in plasma and cumulation of ions
за авторством: Fainberg, Ya.B., та інші
Опубліковано: (2005)