Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

• Дата: 2002
• Автори: Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Low temperature plasma and plasma technologies
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/80324
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Application of arc plasma for a deposition of superconducting films / J. Langner, R. Russo, L. Catani, S. Tazzari, M. Cirillo, K. Czaus, V. Merlo, F. Tazzioli, D. Proch, N.N. Koval, I.V. Lopatin // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 161-164. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.