Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
The problem of plasma cyclotron heating in ECR plasma sources, to sustain the discharge, remains important at present. There are two methods for the analysis of this problem. The first one is the one particle stochastic mechanism and the second one is related with the non-linear interaction of waves...
Збережено в:
Дата: | 2002 |
---|---|
Автори: | Gutiérrez-Tapia, C., Hernández-Aguirre, O. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/80325 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source / C. Gutiérrez-Tapia, O. Hernández-Aguirre // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 165-167. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002) -
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005) -
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007) -
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008) -
Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)