Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления

Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных реж...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2006
Автори: Бизюков, А.А., Середа, К.Н., Кашаба, А.Е., Ромащенко, Е.В., Чибисов, А.Д., Поневчинский, В.В., Слепцов, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2006
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/81132
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Испарение макрочастиц в плазме сильноточного импульсного дугового разряда низкого давления / А.А. Бизюков, К.Н. Середа, А.Е. Кашаба, Е.В. Ромащенко, А.Д. Чибисов, В.В. Поневчинский, В.В.Слепцов // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 5. — С. 136-141. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследуются сильноточные импульсные режимы работы планарной магнетронной распылительной системы (МРС) с образованием на поверхности распыляемой мишени катодных пятен. Технологические испытания показали, что скорость осаждения покрытий зависит от типа разряда в МРС, и эта зависимость в импульсных режимах более сильная, чем в постоянных. В осажденном покрытии не обнаружено наличие капель материала катода. Это обусловлено тем, что они испаряются под действием потоков заряженных частиц плотной плазмы. Предложена теоретическая модель, показывающая возможность испарения или уменьшения размеров определенной части капель в плазменном потоке вакуумной дуги. Показано, что эффективность испарения капельной фазы растет с увеличением плотности плазмы.