2025-02-22T10:01:08-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-82243%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:01:08-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-82243%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-22T10:01:08-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-22T10:01:08-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response

Calculations for parameters of a stationary reflex discharge

A variant of the stationary reflex discharge model based on the global (volume-averaged) model is under consideration. The calculation is carried out on the plasma electron density and temperature as a function of the adsorbed power in the reflex discharge, magnetic field value and initial gas press...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Kovtun, Yu.V., Ozerov, A.N., Skibenko, A.I., Skibenko, E.I., Yuferov, V.B.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Series:Вопросы атомной науки и техники
Subjects:
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82243
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
id irk-123456789-82243
record_format dspace
spelling irk-123456789-822432015-05-28T03:01:51Z Calculations for parameters of a stationary reflex discharge Kovtun, Yu.V. Ozerov, A.N. Skibenko, A.I. Skibenko, E.I. Yuferov, V.B. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии A variant of the stationary reflex discharge model based on the global (volume-averaged) model is under consideration. The calculation is carried out on the plasma electron density and temperature as a function of the adsorbed power in the reflex discharge, magnetic field value and initial gas pressure. The density of neutral atoms and cathode material ions coming into the discharge by the cathode sputtering mechanism is determined. Рассмотрен вариант модели стационарного отражательного разряда на основе global (volume-averaged) модели. Проведен расчет зависимости плотности и температуры электронов плазмы от адсорбированной мощности в отражательном разряде, величины магнитного поля и начального давления газа. Определена плотность нейтральных атомов и ионов материала катода, поступающих в разряд за счет механизма катодного распыления. Розглянуто варіант моделі стаціонарного відбивного розряду на основі global (volume-averaged) моделі. Проведено розрахунок залежності густини та температури електронів плазми від адсорбованої потужності у відбивному розряді, величини магнітного поля і початкового тиску газу. Визначена густина нейтральних атомів та іонів матеріалу катода, що поступають у розряд за рахунок механізма катодного розпилення. 2015 Article Calculations for parameters of a stationary reflex discharge / Yu.V. Kovtun, A.N. Ozerov, A.I. Skibenko, E.I. Skibenko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 201-204. — Бібліогр.: 22 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.80.-s; 52.80.Sm http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82243 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
spellingShingle Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Kovtun, Yu.V.
Ozerov, A.N.
Skibenko, A.I.
Skibenko, E.I.
Yuferov, V.B.
Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
Вопросы атомной науки и техники
description A variant of the stationary reflex discharge model based on the global (volume-averaged) model is under consideration. The calculation is carried out on the plasma electron density and temperature as a function of the adsorbed power in the reflex discharge, magnetic field value and initial gas pressure. The density of neutral atoms and cathode material ions coming into the discharge by the cathode sputtering mechanism is determined.
format Article
author Kovtun, Yu.V.
Ozerov, A.N.
Skibenko, A.I.
Skibenko, E.I.
Yuferov, V.B.
author_facet Kovtun, Yu.V.
Ozerov, A.N.
Skibenko, A.I.
Skibenko, E.I.
Yuferov, V.B.
author_sort Kovtun, Yu.V.
title Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
title_short Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
title_full Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
title_fullStr Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
title_full_unstemmed Calculations for parameters of a stationary reflex discharge
title_sort calculations for parameters of a stationary reflex discharge
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2015
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82243
citation_txt Calculations for parameters of a stationary reflex discharge / Yu.V. Kovtun, A.N. Ozerov, A.I. Skibenko, E.I. Skibenko, V.B. Yuferov // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 201-204. — Бібліогр.: 22 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT kovtunyuv calculationsforparametersofastationaryreflexdischarge
AT ozerovan calculationsforparametersofastationaryreflexdischarge
AT skibenkoai calculationsforparametersofastationaryreflexdischarge
AT skibenkoei calculationsforparametersofastationaryreflexdischarge
AT yuferovvb calculationsforparametersofastationaryreflexdischarge
first_indexed 2023-10-18T19:24:48Z
last_indexed 2023-10-18T19:24:48Z
_version_ 1796146853949997056